【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

『光半導体・オプトエレクトロニクス製品』

PRオリジナル半導体メーカー認定。正規販売代理店および製造メーカーとして、…

当社は、70社を超える半導体メーカーから認定を受けており、 正規販売代理店として製品の提供を行い、製造メーカーとして製品の継続供給も行っております。 東芝、ams OSRAM、京都セミコンダクターなど様々なメーカーの オプトエレクトロニクス製品を豊富に在庫保有しており、 安定した継続供給を実現する体制を整えています。 【特長】 ■フォトカプラ、可視光LEDなど幅広い製品の在庫を保有 ■複数のパ...

メーカー・取り扱い企業： Rochester Electronics, Ltd.

半導体製造プロセスの微量分析に活躍するイオンクロマトグラフィー

半導体製造プロセスに関わる全ての方へ　迅速にプロセス汚染を特定する高い…

半導体製造プロセスや完成したデバイスにとって、イオン汚染は腐食、浸食、短絡の原因となる恐れがあるため、大きな懸念です。 イオンクロマトグラフィー（IC）は、半導体業界におけるさまざまなプロセス汚染物質の微量成分と、主要成分を迅速に測定できる効率的な分析手法です。当社のイオンクロマトグラフィーシステムがどのように活用できるかをご紹介いたします。 ※詳細はPDF資料をダウンロードいただくかお気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

IC-MSシステムによる過酸化水素中の陰イオンの分析

過酸化水素中の不純物イオン分析に役立つソリューション"イオンクロマトグ…

過酸化水素は殺菌剤、漂白剤、大気吸収液、半導体洗浄液など工業、医療の幅広い分野で使用されています。用途によっては過酸化水素中の微量の不純物イオンが問題を引き起こすことがあるため、高純度の過酸化水素が求められています。 過酸化水素中の陰イオン...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

【オンラインセミナー公開中】Nalgene クリーンボトル

Nalgeneボトルの洗浄サービスについて、オンラインセミナーで内容を…

・Nalgeneの高い技術により口部のネジ山を高く成形 ・キャップにも強度に優れたネジ山を採用 洗浄から包装までの工程はISO クラス5（旧クラス100）相当の環境で行っており、医薬品や半導体、電子材料等特に高い洗浄度を必要とする製品に大変有用なサービスとなっております。 洗浄工程や梱包は、下記のような流れで行われています。 ・受け入れ検査（バリ、黒点、外観異常などの確認） ...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.