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PR電気を使用しないエア駆動式。防火・防爆地区に適応します。 発売以来8年…
『FSBL-50』は純水、IPA、NMPなどの流体を高圧に送り出して、 ウエハーなどの洗浄対象に噴射して膜を除去する目的の装置に組み込まれるポンプです。 接液部の材質はSUS316、逆止弁は新開発のポペット弁により長寿命で金属粉の発生がありません。 また、昇圧部のシール材はフッ素系高分子ポリエチレンを標準採用、NMPなど有機溶剤系仕様としてカルレッツも対応可です。 【特長】 ■コ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト
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PRシングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…
『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比…
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。 ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。 非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。 さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナ...
メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社
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