• 従来の横型真空ポンプに比べ、省スペース化、低コスト化を実現 製品画像

    従来の横型真空ポンプに比べ、省スペース化、低コスト化を実現

    PR立型構造の為、従来の横型に比べ圧倒的な省スペース化。又、同じ動力であれ…

    『TRVシリーズ』は、凝縮性ガスに強い真空ポンプとして独自に開発した汎用ドライ真空ポンプ(ルーツ真空ポンプ)です。 ガス流路が上部から下部へ流れるDown-Flowとなるように配置されているため、ガスと共に吸引したミストやポンプ内部で凝縮した液体は、吐出口まで流下し大気圧力下において容易に排出・回収することができます。 このためミストの流入やガスの凝縮液に対して極めて強靭なポンプです。 材質...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社宇野澤組鐵工所

  • 『粉粒体定量供給機の総合カタログ』※納入事例集も進呈 製品画像

    『粉粒体定量供給機の総合カタログ』※納入事例集も進呈

    PR約100ページの大ボリューム。化学・製鉄・製紙・食品など多業界で活躍す…

    粉粒体の定量供給機をはじめ、排出機、計量機、周辺機器などをまとめた 約100ページの『総合カタログ(供給機選定表付き)』を進呈中です。 脈動のない高精度の連続供給を実現した製品や、 製品の形状変化を防ぎながら定量供給が可能な製品、 貯留サイロ1基から多方向へ供給できる製品など 多彩な製品の特長を詳しくご紹介。 供給・計量・制御が1台で完結するロードセル内蔵型の 連続計量供給機...

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    メーカー・取り扱い企業: グローバルマテリアルズエンジニアリング株式会社(旧大盛工業株式会社)

  • LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置 製品画像

    LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

    液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ4” 厚みについては応相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置 製品画像

    小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置!独自機構の表…

    装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」 製品画像

    ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

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