独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」

PRAEM（アニオン交換膜）式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…

【AEM式水電解水素製造装置　3つの特長】 １．高圧・高純度の水素を生成 　　99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ 　　水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ 　　ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運 　　転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 ２．貴金属不要で低コストを実現 　...

メーカー・取り扱い企業： 三國機械工業株式会社

回転機用加速度センサ CE311

大型ガスタービンや蒸気タービン等の厳しい環境下において、長期間の振動測…

高い応答周波数 (最大8,000 Hz) 高感度 (50μA/G) 電流出力 (50μA/G)、長距離伝送可能(最大1000 m) 防爆認定...共振周波数 : 20 kHz typ. レンジ : 0.004～40 G peak 感度 : 50 μA/G ±5 % 精度 : ±1 % 応答性 : 2～8,000 Hz 温度 : -40～125 ℃ 重量 : 245 g...

メーカー・取り扱い企業： 三協インタナショナル株式会社

回転機用加速度センサ CA202

大型ガスタービン、蒸気タービン等の厳しい環境下において、長期間の振動測…

高感度 (100 pC/G) 広い応答周波数 (0.5～5,000 Hz) 防爆認定...共振周波数 : 20 kHz nom. レンジ : 0.01～400 G peak 感度 : 100 pC/G ±5 % 精度 : ±1% (0.01G～20G), ±2% (20G～400G) 応答性 : 0.5～5,000 Hz 温度 : -55～260 ℃ 重量 : 250 g...

メーカー・取り扱い企業： 三協インタナショナル株式会社