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実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』
PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...
メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社
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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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デジタルカメラ、各種検査装置などに最適な高性能光学薄膜フィルター
【特徴】 ○紫外域~遠赤外域の幅広い波長帯域に対応可能 ○外観欠陥10 µmに対応 ○イオンアシスト蒸着、イオンビームスパッタによる 高品位多層膜の成膜 【光学特性】 ○ノッチフィルター →通常の設計では出てしまう透過帯のRippleをなくした ○バンドパスフィルター →狭いバンドパスで広帯域をカット ○AOI = 45° Non-...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニデック コート事業部
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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
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