FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

アリ溝式ステージ『セルフロックステージ　SLXシリーズ』

PR特許取得のロック機構で止めた位置から微動しないステージ。ロングストロー…

バリエーション豊富で多彩な組み合わせができる「アリ溝式ステージ」に、 ロングストロークでストッパー不要の『SLXシリーズ』が加わりました。 位置調整後にステージをストップする特許取得のセルフロック機構を搭載。 手動ストッパーやクランプ操作による微動・位置ずれの心配がありません。 高い位置決め精度での加工・検査が求められる用途や、 位置調整後に長時間確実に固定したい用途で活躍します...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミラック光学

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温…

VD排気ラインの改善により、ダウンタイム削減ができる！ ・流路を高温（180℃）、かつ均一に加熱する方法とは？ 掲載されている製品・技術： #半導体製造用部材　#空圧 ボールバルブ　#手動 ボールバルブ　#アイソレーションバルブ　#Ｌ型真空バルブ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

手動陽極酸化装置

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

陽極酸化装置は従来、電流を流し酸化膜を形成させる装置でしたが、さらに応用したポーラスシリコン形成装置は使用薬液・電流密度を変えることで多孔質シリコンを形成する装置です。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...【特長】 ■用途に合わせたカスタマイズが可能で研究開発等に適しています。 ■オプションにより薬液供給・回収機能、濃度計等選択出来ま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン