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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高温観察装置『IR-HP』/ 接触角・濡れ性測定アプリケーション
上部・側部の観察窓から加熱中のサンプル状態も観察可能!画像データから接…
『IR-HP』は、サンプルのみの集光加熱により、1300℃までの加熱が可能な高温観察装置です。 100mmの大型試料ホルダーを標準装備し、上部に加えて側部に観察窓を 設けることにより、色々な角度で加熱中のサンプルの状態が観察可能です。 また、Nick社との共同開発により、高温化での接触角および濡れ性を 画像データから自動計算が可能になりました! 固体である物質が液体化する高温時の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社米倉製作所
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ワークの回転、スライド機能をカット!出力低下がほぼなく使用時間の経過に…
『HB-1390』は、線集光型ラインヒーターと遮光マスクの組み合わせで (1~5mm)範囲の加熱加工が可能な装置です。 条件設定は、出力、照射時間、遮光マスク幅調整の3点のみ。 操作が容易で、作業者の熟練度に頼らない高い品質再現性を有します。 当社ラボにはテスト機が有りますので、テストを御希望の際には お気軽に御相談ください。 【特長】 ■出力低下がほとんどないため、使用...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイベック
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最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理
密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。 所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。 最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。 炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採...
メーカー・取り扱い企業: オガワ精機株式会社
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最大400℃の熱をかけながら成形可能な小型ヒータープレス
加熱成形用のダイセット方式 卓上で使えるコンパクト設計 手動ポンプで微速加圧が可能 温度設定はPID制御により正確にコントロール デジタル表示で温度設定が簡単 デジタル荷重計により正確な荷重を表示...
メーカー・取り扱い企業: ラボネクト株式会社
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C-Wave PLTは、R&D及びパイロットスケールの開発用に設計され…
C-Wave PLTは、R&D及びパイロットスケールの開発用に設計された連続フローマイクロ波リアクターです。 自己完結型ユニットとして、または他の機器と統合する装置として供給します。可燃性の溶剤も高圧で操作できます。 連続マイクロ波化学は、多くの化学反応を実行するための優れた方法です。 迅速かつ正確な加熱により、副反応が減少し、収率が向上します。 リアクター内の反応物の量が減少した時は、電力入力制...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイビック・リサーチ
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
◉Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気: ・真空・不活性ガス(グラファイト) ・還元雰囲気(TiC3コーティング) ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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