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49件 - メーカー・取り扱い企業
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10件 - カタログ
223件
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液晶ガラスの手動搬送に吸着ツール
◎ 液晶ガラスの手動搬送に最適です。 ◎ 外部配線、配管なしで作業性がよいです。 ◎ 真空源（真空ポンプ、エジェクタ）が不要です。 液晶メーカ様からの御要望でこの吸着ツールを開発しました。人による液晶製造装置への液晶ガラスの搬送に多数採用されています。この吸着ツールは、真空源（真空ポンプ、エジェクタ）が必要なく、民生の吸盤のように液晶ガラスを吸着搬送できます。 原理は単純です。バルブを...
メーカー・取り扱い企業： 大谷技研株式会社
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卓上平面研削機 テクノラップ、テクノラップステップオート 研究用
教育機関、研究室・実験室向けに小型化した立軸平面研削機。カップ型ホイー…
教育機関、研究室・実験室向けの小型卓上平面研削機 ■主軸回転数は無段変速、試料の加工特性に合わせて回転数が調整可 ■研削切込量が最少0.01mm（ステップオートは0.001mm）から設定可能で試料外周部のダレを低減し高精度な平面を実現 ■テーブル送りは自動、送り速度も無段変速式 ■金属マウント台（高平行精度）をマグネットクランプにセットする方式で試料の脱着は容易 ■カップホイールを装着...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社
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小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置 全手動操作で低コスト…
高い信頼性をもつ上位機種と真空槽・排気系を共通化。操作方法の手動化によって低コスト化を実現。膜種・目的に合わせて各部（カソード・基板台等）が選択可能。実績豊富な各部機構と安定した成膜性能で研究開発作業の効率化・質の向上が「図れます。...成膜系：φ３インチカソード １元装備 ：高周波電源 １源装備 ：基板加熱機構標準装備 ：排気系 拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュア...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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個人差のないカーボン蒸着が可能に！ EPMA・分析SEMの前処理用とし…
QUICK CARBON COATER SC-701CTは、EPMAや分析SEMの試料作製の手間を省いたカーボン蒸着専用コーターです。誰でも簡単・手軽にカーボン蒸着できます。 個人差のない蒸着を実現し、試料に対する熱ダメージを低減します。 【特長】 〇フラッシュ式蒸着法を採用 → 個人差のないカーボン蒸着を実現 〇蒸着作業時毎にカーボン棒を削る手間を省く 〇ロータリーポンプのみによる...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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寿命がある軸受や摩耗するシールを使わない、革新的な磁気浮上式遠心ポンプ…
BPS-2000ポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ－タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 電子的にロータ回転数を制御するの...
メーカー・取り扱い企業： Levitronix Japan株式会社
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Better Pumps for Better Yields !
BPS-4Hポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ－タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 電子的にロータ回転数を制御するので、...
メーカー・取り扱い企業： Levitronix Japan株式会社
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コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」
ターゲットは3種類同時に装着可能！多層膜を作製することが可能です。
マルチコンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」は、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 【特長】...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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高精度とハイレベルな操作性で高能率を実現した、側面研磨機のベーシックモ…
『EF-060』は、高精度とハイレベルな操作性で高能率を実現した 手動側面専用研磨機です。 スペースを取らないコンパクト設計。 オシレーション機構により砥石とチップの当たりがスムーズです。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■スペースを取らないコンパクト設計 ■オシレーション機構により砥石とチップの当たりがスムーズ ※詳しくはPDF資料をご覧い...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社えのきだ
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コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…
少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 ８インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりＭＥＭＳ・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ...標準仕様 ４インチカソード３元装備による多層成膜 ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプの高速排気 逆スパッタと基板加熱機構の標準装...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』
均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置
AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜...
メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4～8インチ…
QUICK COATER SC-708シリーズは、SEM観察または分析用大型試料のチャージアップ防止用として、また、一度に多くのサンプルの成膜処理を行ないたい場合に最適なスパッタコーターです。 【特徴】 〇サンプルサイズや数量に応じて、4、5、6、7、8と1インチ単位で選択が可能です。 〇コーティングモード/エッチングモード搭載 〇スパッタ薄膜作製はもちろん、マイクロチャネル流路形成時...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…
QUICK COATER SC-701HMC IIは、Ni、Cr、W、Ti、Al等、多種金属対応のハイスペックモデルです。 ソフトウェア制御で高精度コントロールが可能。各種金属の薄膜作製を手軽に行なえます。 【特徴】 〇プログラマブルスパッタコーター 〇フルオート/マニュアルの2タイプの操作 〇シャッター標準装備...【仕様】 ○ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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自立型スピンコーター（スピンコート機）『ACT-700AII』
□360mm、20インチ基板まで対応の自立型スピンコート機ACT-70…
アクティブの『自立型スピンコーターACT-700AII』はφ500mm基板まで対応する汎用性の高い手動滴下用の装置です。 1分間の回転数を0～3000の範囲で設定でき、その精度は±2rpm以下ととても良いです。1ステップの動作に「回転数」「加減速時間」「キープ時間」を同時に設定することができ、10ステップ100パターンのプログラム（事前連絡で、20ステップ50パターン、50ステップ20パター...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アクティブ
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シンプルを追求したコーター ボタン1つで簡単に操作できます
QUICK MINI COATER SC-701Mk II ECOは、軽量コンパクトでSEM試料用前処理に特化したコーターです。 【特長】 〇ボタン1つのスーパーイージーオぺレーション 〇マグネトロンカソード採用によりイオンダメージを軽減 〇スモール、コンパクト&ライトウェイト ...【仕様】 ○ターゲットサイズ：φ49ｍｍ 〇適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-P...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…
■Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ■3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ■試料台サイズφ4inch〜φ8inc...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…
当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC
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SEM用試料の前処理用として最適！シリーズ最小のコンパクトコーターです…
「SC-701MkII」は、シリーズ最小のコンパクトコーターです。 デバイスの電極膜付けにも使用可能で、シンプル＆イージーオペレーションです。 イオンダメージを軽減する間欠スパッタ機能を標準搭載。 試料ブロックを用いて簡単にT-S間距離を変更できます。 SEM用試料の前処理用として最適です。 【特長】 ○シリーズ最小のコンパクトコーター ○低価格／小型軽量タイプ ○熱ダメージ防...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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操作が簡単！薄膜から厚膜まで、低粘度から高粘度まで1台で塗工可能
『卓ダイ』は、一人で全ての塗工操作ができるスリットダイコーターです。 スリットはシムを使用しない固定タイプで再現性があり、ダイは 3ピース構成、取外しが容易であり、液替え時間は約20分。 液供給部が塗工幅と同一な為、平行流状態で液吐出が可能です。 この他に、A4サイズの基材に瞬時に再現性よくスプレー塗工する装置 「簡易スプレーコーター」も取り扱っています。 【特長】 ■操...
メーカー・取り扱い企業： 伊藤忠マシンテクノス株式会社
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複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…
『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリ...
メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社
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【デモ機貸し出し可能！】一度に数枚のワークを処理できます
本機はスピン式のスプレー現像装置で、自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、乾燥を行います。 一度に数枚のワークを処理できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【特徴】 ○スピン式のスプレー現像装置 ○自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、乾燥を実行 ○一度に数枚のワークを処理可能 ○現像液は予めタンクで電子冷熱機により恒温に保たれポンプで循...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社
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コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置
『KVD-OLED Evo.6』は、有機EL材料の塗布材料を目的とした OPV(有機薄膜太陽電池)用蒸着装置です。 有機材料の塗布工程は接続されているグローブボックス(MBRAUN)の中で 行い、搬送機構を用いて蒸着室内に基板を搬送し、電極を蒸着させる 一貫した装置となります。 グローブボックス（MBRAUN社製Labmaster）と接続でき、 ロードロック室間は手動の搬送機構...
メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社
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FPD製造工程で威力を発揮するフィルム用整合付半自動露光装置
5kWのショートアークUVランプを搭載...装置は､材料手動L/UL部､整合および露光部､付帯の真空ポンプボックスで構成されています｡ ITO(Indium Tin Oxide：酸化インジウムスズ)パターンを画像認識し､あらかじめコーティングされた銀インクレジストを露光します｡...
メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社
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自動研磨機『メカテック234-264』 再現性の向上&操作性抜群
「再現性」に特化した自動研磨機！メンテナンス性にも優れた１台です。
『メカテック 234-264』は、タッチパネルですべての操作が可能な自動研磨機です。 ドレンボウル着脱可能なため、メンテナンスのしやすいデザインとなっており、詰まりを起こしにくくなっております。 【特長】 ■LEDカラータッチスクリーン搭載 ■100通りの研磨プロセスの保存が可能 ■荷重方法3種類の仕様から選択可能 ■自動・手動 切断可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...
メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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Better pump for Better Yields !
BPS-600ポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ－タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 電子的にロータ回転数を制御するので...
メーカー・取り扱い企業： Levitronix Japan株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型成膜装置！ターゲットは3種類同時に装着可能です。
マルチターゲットコンパクトコーター SVC-700TMSG/Adexcelは、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…
◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ◉3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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Better pump for Better Yields !
BPS-4000ポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ－タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 電子的にロータ回転数を制御するの...
メーカー・取り扱い企業： Levitronix Japan株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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加熱スピンコーター（スピンコート機）『ACT-300AII-H』
注目度高し！ 試料台の加熱が可能な卓上型スピンコート機ACT-300A…
最近お引き合いの多いアクティブの人気機種『ACT-300A II-H』は、アルミ製試料台の直下にヒーターを内蔵した加熱式の卓上型手動滴下用スピンコーターです。 基板をのせる試料台を加熱するので、例えばワックスなどある程度基板が温まっていないと伸展性の悪い液をスピンコートする際に便利です。 1分間の回転数を0～6000の範囲で設定でき、その精度は±1rpm以下ととても良いです。1ステップ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アクティブ
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卓上型スピンコーター（スピンコート機）『ACT-300AII』
高性能・低価格！6インチ基板まで対応の卓上型スピンコート機ACT-30…
アクティブの人気機種『卓上型スピンコーターACT-300AII』はφ150mm基板まで対応する汎用性の高い手動滴下用の標準機です。 薄膜を得たい基板のサイズがACT-220AII（最安値機種）の範囲内であっても、将来基板サイズが大きくなることを考慮しこちらを選ばれる方も多いです。 低価格ながら1分間の回転数を0～6000の範囲で設定でき、その精度は±1rpm以下ととても良いです。1ステ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アクティブ
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卓上型スピンコーター（スピンコート機）『ACT-220AII』
高性能・低価格！研究、実験用にも適した小型のスピンコート機ACT-22…
アクティブの人気機種『卓上型スピンコーターACT-220AII』は弊社のスピンコーター標準機の中で最も小型の手動滴下用スピンコート機です。約18kgと女性でも持てる程度の重さで持ち運びができるため、場所を選ばずご使用いただけます。 低価格ながら1分間の回転数を0～7000の範囲で設定でき、その精度は±1rpm以下ととても良いです。1ステップの動作に「回転数」「加減速時間」「キープ時間」を同時...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アクティブ
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