• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 高速シーリング 着脱ツール『FasTestクイックカプラ』 製品画像

    高速シーリング 着脱ツール『FasTestクイックカプラ』

    PRリークテストおよび流体移送プロセス用の繰り返し着脱できるコネクションツ…

    リークテストおよび流体移送プロセス用の繰り返し着脱できるコネクションツール。工具やシール材を使用せずに高速配管を繰り返すことが可能です。 リークテストなど、繰り返し配管が必要なシーンにおいて、安全性の向上や、作業者への負荷軽減、作業時間の大幅な短縮が見込めます。 【総合カタログ 掲載内容】 ■セレクションガイド ■内部グリップ型 着脱ツール ■外部グリップ型 着脱ツール ■特定...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大手技研

  • ヘーズメーター(ヘイズメーター)『HM-150L2N』 製品画像

    ヘーズメーター(ヘイズメーター)『HM-150L2N』

    高レベルのダブルビ−ム方式の採用により、再現性の良い高精度の測定が簡単…

    『HM-150L2N』は、透過物体(プラスチック(シート、フイルム状)、ガラス、液体等)の全光線透過率、拡散光線透過率、ヘーズ(曇り価)が得られる測定機です。 従来のHM-150N型(横置き)の光学系を縦置きに設計しているモデルなので試料サイズが大判でも問題なく測定可能です。 F型ダブルビーム方式の採用により、積分球効率を補正するための補償開口への試料移動が不要で、操作性の良い、高精度...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社村上色彩技術研究所

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