CNC旋盤『CNC自動旋盤：NN-20UB10シリーズ』

PR野村DS株式会社のCNC自動旋盤の特徴は難削材の加工で力を発揮する【剛…

『NN-20UB10シリーズ　~φ20mm加工機』とほぼ全ての機械のメイン刃物台にはアリ溝構 造を採用し、摺動面に伝統工法のキサゲ加工を施す事で高い剛性が実現します。 お困りの難削材（硬い材料）の加工で力を発揮するのはもちろん、快削材でも幅広く加工 が可能であり、切粉を細かく切断する新技術MVT（振動切削） を搭載すれば、 刃物、加工物に巻きつく切粉を低減し、工具や製品へのダメージを抑...

メーカー・取り扱い企業： 野村DS株式会社 本社工場

協働ロボットへ進化するマキテックAMR『Robot-Vシリーズ』

PR2D-SLAMのみで停止位置精度±1cmを実現！環境マップの作製やルー…

株式会社マキテックの『Robot-Vシリーズ』は、AMRの自律走行を可能にする ソフトウェア「Navitrol（ナビトロール）」を搭載した、協働ロボットへ 進化する自走走行ロボット（AMR）です。 変化する環境の中でも自己位置をロストすることなく安定的に走行が可能。 また、環境地図作成やルート設定も容易に行うことができ、AMR導入のリード タイムを短縮します。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マキテック

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：110...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ) ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

ドイツUniTemp社の温度コントロールの高性能さはそのままに、 リフローに必要な機能だけを搭載した手軽にお使い頂けるモデルです。 コンパクトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算して...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

水素センサー、濃度計測、溶存水素、水素燃料

用例；EVバッテリー開発（発生水素をオンライで計測）水素ジェット・ター…

センサー単体が水素限定タイプです。（パラジウム・ニッケル合金超薄膜センサー素子技術使用） リファレンスガス不要。自動校正タイプ。ASIC搭載。 レスポンスタイム１秒。 ガスクロレベルの濃度計測精度。アナログ出力・各種デジタル出力対応。 容易な取り付け、メンテナンス費用の大幅削減可能。 使用・搭載実績； 欧米の変圧器中絶縁油・ガ...

メーカー・取り扱い企業： TRANS-PAC SALES CORP

RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

カソード x 最大3源 ◉ 真空蒸着：抵抗加熱蒸着（最大2）、有機材料蒸着（最大4） ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

活性化アニール炉『VF-3000H』

R&D～量産まで使用可能！3～6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉

『VF-3000H』は、超高温処理が可能で、パワーデバイス製造に適した 活性化アニール炉です。 ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ～6インチまで幅広い ウェーハサイズに対応します。 ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまで お使いいただけます。 また、活性化後の炭化除去も可能な「VF-5100」もご用意しております。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

はウェハに対して平行に流れます。 　平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを 　除去するのに効果的です。 チャンバー内にパーティクル除去フィルタを搭載 　加熱されたプロセスガスは100um径の穴が開いたフィルタを通ってワークに到達し、 　ワークを通り過ぎた後に再びフィルタを通過し、チャンバー外部へ排出されます。 　これによりプロセスガス中の...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社