【出展情報】2024洗浄展『NSクリーン』炭化水素系洗浄剤

PR〈高機能×低リスク〉洗浄性能と環境適合性を両立！臭素系・塩素系溶剤の代…

2024年9月18日(水)～20日(金)に東京ビッグサイトで開催される洗浄総合展に出展いたします。 洗浄に関する長年のノウハウをもとに、お客様の課題解決のサポートをさせていただきます。 洗浄でお困りの方、ぜひ会場へお越しいただき、NSクリーンの洗浄力を体験してみて下さい。 ＜概 要＞ ■展示会名：2024洗浄総合展 ■展示会場：東京ビッグサイト　東4ホール　W-74 ■開催期間：...

メーカー・取り扱い企業： （製造元）ENEOS株式会社　（販売元）株式会社ENEOSサンエナジー NSクリーン部

『粉体・液体プラントの総合エンジニアリング』

PR作業負担の軽減、混合時間の短縮など様々な課題を解決。改善事例を掲載した…

当社では、設計から施工・管理、機器・部品の製造、販売までカバーする 『粉体・液体プラントの総合エンジニアリング』を行っています。 在庫管理システムと連携し、多品種の原料を自動で計量・供給するシステムや、 新しい素材や付加価値の高い原料の処理工程など、 様々なプラント設備の設計・施工が可能です。 ★当社による粉体設備の改善事例を掲載した資料を進呈中。 　詳細は「PDFダウンロード...

メーカー・取り扱い企業： アクトシステムエンジニアリング株式会社

Prestige エッチング加工製品、半導体外観検査装置カタログ

半導体の欠陥、ムラ、シミの検査を同一の検査工程で一度に行うことが可能。…

半導体の各製造工程、成膜、レジスト塗布、リソグラフィー、エッチング、CMPなど、ウェア上の各ダイに均一な製造工程を行いたいもの。 しかし、現実には異物混入、パターン欠陥や膜厚などのばらつきにより、ウェハー上にムラが発生します。 その各工程に自動化した検査装置を入れることにより、各工程の半導体工程作業の微調整を可能にします。 また、半導体のウェハーのみならず、金属エッチング加工製品では、目...

メーカー・取り扱い企業： CCTECH Japan CCTECH Japan（株）- 　日本法人

半導体マクロ検査装置（iFocus)

半導体ウェハー検査機器、検査用カメラを２台使用し、タクトタイムを1/2…

特許取得のOTF(On the Fly)技術をを使用し、検査用カメラを２台使用し、明暗視野を同時に撮像することにより、検査工程に価格時間を1/2に短縮。また、３Dの検査も可能し、WLSCPパッケージ等に使用されるバンプのコプラナリティの検査を可能にします。...★２つの搬送アームを使用するため、全体ウェハ、切り込みウェハに対し、ハードウェアの変更なしで使用することが可能。 ★２台のカメラを同時に...

メーカー・取り扱い企業： CCTECH Japan CCTECH Japan（株）- 　日本法人