• 高効率プリント基板搬送システム【GENIUS】 製品画像

    高効率プリント基板搬送システム【GENIUS】

    PR【GENIUS】は搬送、製品のバッファリング/アキュームレーション等様…

    FlexLink が提供します【GENIUS】高効率プリント基板搬送システムは、製品範囲全体に標準アセンブリ機能を組み込んだ プリント基板ハンドリング ユニットの完全なラインを提供します。 すべてのモジュールは CE マークを取得しています。 【GENIUS】基板搬送システムには完全に独立したモジュール式のスタンドアロン ユニットが組み込まれています。 各モジュールにはオンボード制御システムが搭...

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    メーカー・取り扱い企業: ジーディー自動機械株式会社 フレックスリンク事業部

  • 粉粒体供給機 サークルフィーダ「標準型」のご提案 製品画像

    粉粒体供給機 サークルフィーダ「標準型」のご提案

    PR汎用性が高く機能性に優れた粉粒体供給機サークルフィーダを「標準型」とし…

    サークルフィーダをより簡便に導入いただくために仕様・規格・コスト面で見直し「標準型」をシリーズ化してラインアップしました。 販売体制を整え、ユーザー様には更にお求めやすい環境でご提案いたします。 ◉広範囲な供給課題を解決します ・サークルフィーダの持つ機能性をそのままにブリッジや偏析等の貯槽・供給に関わる課題をサークルフィーダ「標準型」で解決します。 ◉型式と仕様の見直しでコスト低...

    メーカー・取り扱い企業: サークルSTD株式会社

  • BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃ 製品画像

    BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

    【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお…

    coating, W)、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱) 【標準付属品】 ● 熱電対:K素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き(*C, Rの場合は別売) ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外素線も用意しております(W, Nb, Mo, ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    ◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ 試料サイズ:10x10mm, (Φ2.5inch)100 x 100mm(Φ4inch) ◉ PID温度コントロール...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能) ・高真空対応(ターボ分子ポンプ) ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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