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【様々な画面のUI/UXに!】組込機器向けHTML5ブラウザ
PRFA機器をはじめ、複合機やインターホン等、様々な装置の操作パネルなどに…
『Espial HTML5 Browser』は、高速化と安定化のチューニングが施された WebKitをベースとした様々な組込み機器向けのHTML5 HMI/UIエンジンです。 シンプルな画面からリッチな画面までHTML5を活用した高い開発効率の実現とCPUやメモリの消費を押さえながら優れたUXを提供。 ライン・産業機器、計測・計量機器の表示・操作パネルUIをはじめ、プリンター、インターホンなど家...
メーカー・取り扱い企業: Espial Group Inc. エスピアル 日本営業本部
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製造現場実績収集-確実収集のヒント-RFIDデタコレシリーズ
PR製造DX/管理、スケジューラ活用は現場実績データの確実な収集から。ミド…
デモ可能、ご相談下さい。 ★デタコレシリーズに、ミドルウェアが新登場! ★必要な実績データを、現場状況に適した 「RFIDタグ・機器構成・運用方法・システム連携方法」で確実に収集致します。 【特徴】 〇ミドルウェアによる多彩なシステムインターフェース 〇手作業現場でも自動搬送ラインでも活躍 〇確実なデータ収集 〇製造を止めない 〇レイアウト変更/故障時交換に柔軟対...
メーカー・取り扱い企業: シーレックス株式会社
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715,000ppmより40ppm以下に除去!希硫酸水溶液にてEG、P…
にてEG、PGに反応変換させます。 処理ガス量は914.2Nm3/h、設計除去率は715,000ppmより 40ppm以下に除去します。 【事例】 ■納入先業種:樹脂 ■設計・設置機器:エチレンオキサイド・プロピレンオキサイド除去塔 ■処理ガス量:914.2Nm3/h ■除去対象物質:EO、PO ■ガス温度:60℃ ■反応熱による収斂温度:72.1℃ ■設計除去率:71...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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設計除去率が20μm以上の粒子99%以上!処理ガス量290m3/min…
量290m3/min、 温度は20℃です。気液接触は水(循環+補給)にて除去。 設計除去率は、20μm以上の粒子99%以上となりました。 【事例】 ■納入先業種:食品 ■設計・設置機器:ミストエリミネーター2段式 ■処理ガス量:290m3/min ■除去対象物質:食塩ダスト ■設計除去率:20μm以上の粒子99%以上 ■気液接触:水(循環+補給)にて除去 ■材質:本体は...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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ガス除去後合体させてメタノール、ホルムアルデヒドを除去!吸収装置の納入…
pm以下に、アンモニアは5056ppmを5ppm以下にし、 ホルムアルデヒドの2003ppmとメタノールの12549ppmを80%除去します。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器 ・塩酸、ホルムアルデヒド、アンモニア、メタノール吸収装置 ■除去率 ・塩化水素:1503ppmを4.9ppm以下に除去 ・ホルムアルデヒド:2003ppmを80%除去 ・アンモニア:50...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量は1160m3/min、塩分回収濃度は200~260g/L。…
気液接触は食塩カン水(循環+補給)にて、除去し、塩分回収濃度は200~260g/L、 設計除去率は、20μm以上の粒子99%以上となりました。 【事例】 ■納入先業種:食品 ■設計・設置機器:ミストエリミネータ―2段式 ■処理ガス量:1160m3/min ■除去対象物質:食塩ダスト(ダスト量1200kg/h)濃度17.24g/m3 ■設計除去率:20μm以上の粒子99%以上 ■...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量は100Nm3!カーボン微粒子を除去対象物質とした環境装置納…
入口カーボン微粒子(ばいしん)濃度3~3.5g/Nm3、出口濃度0.1g/Nm3以下 (排出基準0.3/Nm3以下)となりました。 【事例】 ■納入先業種:活性炭製造 ■設計・設置機器:予冷塔+ベンチュリ―スクラバー ■除去対象物質:カーボン微粒子 ■出口ガス温度冷却(目的:水蒸気白煙低減) ■気液接触:水(循環+補給)予冷却塔+ベンチュリ―スクラバー ■材質:予冷却塔=...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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【納入事例】予冷塔+ベンチュリ―+デミスター塔+充填塔×2基
酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g/Nm…
酢酸吸収。 除去対象物質の酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g/Nm3 →0.1g/Nm3以下となりました。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:予冷塔+ベンチュリ―+デミスター塔+充填塔×2基 ■設計除去率 ・酢酸ガス:25000ppm→1ppm以下 ・ヒューム状昇華物:5g/Nm3→0.1g/Nm3以下 ■充填物:ハイレックス2...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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出口濃度は青酸ガスで2ppm以下に!高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔の納…
口濃度は、塩素ガスがMax.2vol%、青酸ガスが15vol%で、 出口濃度では、塩素ガスが0.5ppm、青酸ガスが2ppm以下となりました。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:高濃度塩素ガス・青酸ガス除去塔 ■処理ガス量:Max.3600Nm3/h ■除去対象ガス:塩素ガス、青酸ガス ■入口濃度:塩素ガスMax.2vol%、青酸ガス15vol% ■出口濃度:塩素...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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プロピレンガス中の塩酸を20%水溶液として回収!塩酸回収・除去装置の納…
00ppm、出口濃度は2,300ppmです。 また、第2塔(除去塔)の入口濃度はHCI2,300ppm、出口濃度は1ppmと なります。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:塩酸回収・除去装置 吸収塔2基 ■第1塔(回収塔) ・入口濃度:HCI190,000ppm ・出口濃度:2,300ppm ・出口吸収液:20wt%塩酸水溶液 ■第2塔(除去塔) ・入口...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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HCIガスとして入口濃度100ppmを出口濃度10ppn以下に除去!酸…
アップを懸念して内面150mm幅には、 FRP3mmを増し張りしました。 また、苛性カリ水溶液を吸収液とし、ガス温度は30℃となります。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:酸性ガス吸収塔 ■ガス温度:30℃ ■設計除去率:HCIガスとして入口濃度100ppmを出口濃度10ppn以下に除去 ■吸収液:苛性カリ水溶液 ■充填塔:ID1200×H3853(充填高さ...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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送風機は脱硝装置と共用!硫酸酸洗に切り替え時、硫酸ミスト100mg/m…
また、塩酸ガス940ppmを5ppm以下にし、硫酸酸洗に切り替え時、 同時に硫酸ミスト100mg/m3を5mg/Nm3以下に除去しました。 【事例】 ■納入先業種:製鉄 ■設計・設置機器:排ガス・ミスト除去洗浄装置 E730シリーズ ■処理ガス量:300m3/min ■ガス温度:Max.60℃ ■充填塔:ID 1800×H6800(充填高さ2.7m)耐食FRP ■充填物:ハ...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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入口で98%、出口では60%の硫酸濃度!濃硫酸で塩素ガス中の水分を吸収…
Nm3/hです。 3塔直列で、20℃水分飽和より30wtppmまで水分を除去し、 硫酸濃度は、入口で98%、出口では60%となりました。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:塩素ガス中の水分除去塔 3塔直列 ■処理ガス量:塩素ガス1300Nm3/h ■水分:3塔直列で、20℃水分飽和より30wtppmまで水分除去 ■硫酸濃度:入口98%、出口60% ■充填物:...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量は4568Nm3/h!気液接触は水(循環+補給)にて、冷却、…
m3→0.01g/Nm3以下となりました。 気液接触は水(循環+補給)にて、冷却、ヒューム除去。 循環液中の粒子は沈殿させ回収させます。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:予冷塔+ベンチュリ―スクラバー ■処理ガス量:4568Nm3/h ■除去対象物質:白色顔料粉塵 ■設計除去率:ばいじん0.2g/Nm3→0.01g/Nm3以下 ■材質:本体、送風機とも、S...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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充填高さは3m+ディストリビュータ付!放散液流量7.5m3/hのSO2…
液入口濃度はFree So2、12,000mg/Lで、液出口濃度では Free So2、54mg/Lとなり、使用空気量は10m3/minです。 【事例】 ■納入先業種:製鉄 ■設計・設置機器:SO2放散塔 ■放散液流量:7.5m3/h ■液温度:79℃ ■液入口濃度:Free So2、12,000mg/L ■液出口濃度:Free So2、54mg/L ■使用空気量:10m3/...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量70Nm3/hx 2系列!フィルター手前での粗取りが80%の…
80%の設計除去率。 除去対象物質は、粉塵、酸性ガスを含み、粒子径は1μm~40μmですが、 10μm以上のものが85%以上となります。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:粉塵除去塔 EHCUシリーズ ■処理ガス量:70Nm3/hx 2系列 ■除去対象物質:粉塵、酸性ガスを含む ■ガス温度:Max.80℃ ■粒子径:1μm~40μm(10μm以上のものが85...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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カセイソーダ水溶液による吸収!設計除去率99%の硫化水素除去装置の納入…
理ガス量は1500m3/hです。 カセイソーダ水溶液による吸収で、ガス温度は常温、 設計除去率は99%となります。 【事例】 ■納入先業種:希少金属(レアメタル)回収 ■設計・設置機器:硫化水素除去装置 E730シリーズ ■処理ガス量:1500m3/h ■除去対象ガス・濃度:硫化水素ガス Max.1000ppm ■設計除去率:99% ■ガス温度:常温 ■カセイソーダ水溶...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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水による吸収はMax90℃!塩酸ガス5ppm以下の出口濃度となった納入…
・濃度は、 HCI微量、CI2ガス微量、粉塵、Fe2O3です。 出口濃度は、塩酸ガス5ppm以下となり、塩素ガス、粉塵共に成り行きです。 【事例】 ■納入先業種:製鉄 ■設計・設置機器:塩酸ガス除去塔 E730シリーズ ■処理ガス量:6750Nm3/h ■除去対象ガス・濃度:HCI微量、CI2ガス微量、粉塵、Fe2O3 ■出口濃度 ・塩酸ガス5ppm以下 ・塩素ガスは成...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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設計値90%以上の除去率!アクリル酸メチルやトルエンなどを除去対象ガス…
エン1600ppm、 シクロヘキサン100ppm、メタノール20ppm。 処理ガス量は6000m3/hで、設計値90%以上の除去率です。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:アクリル酸メチルガス除去塔 E730シリーズ ■処理ガス量:6000m3/h ■ガス温度:35℃ ■除去率:設計値 90%以上 ■充填塔:ID 1200×H5015(充填高さ2m)SUS3...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス濃度は9300ppm!設計除去率80~90%のイソプロピルアル…
ス量20m3/min、供給水温はMax.28℃、 処理ガス濃度は9300ppmです。 吸収液は水で、設計除去率は80~90%となります。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:イソプロピルアルコール除去塔 EHCUシリーズ ■処理ガス量:20m3/min ■除去対象物質:IPA ■ガス温度:Max.35℃ ■供給水温:Max.28℃ ■処理ガス濃度:9300p...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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入口濃度10vol%を出口濃度0.5vol%以下に除去!塩素ガス吸収塔…
%以下に除去。処理ガス量は 1800m3/h、除去対象ガスは塩素ガスです。 また、カセイソーダを吸収液とし、循環層は20m3となります。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:塩素ガス吸収塔 E730シリーズ ■処理ガス量:1800m3/h ■除去対象ガス:塩素ガス ■ガス温度:40℃ ■設計除去率:入口濃度10vol%を出口濃度0.5vol%以下に除去 ■吸...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量は50m3/min!出口濃度を2ppm以下に除去した塩酸ガス…
濃度40ppmを出口濃度2ppm以下に除去しました。 吸収液はカセイソーダ水溶液で、処理ガス量50m3/min、 ガス温度は40℃です。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:塩酸ガス吸収塔 EHCUシリーズ ■処理ガス量:50m3/min ■ガス温度:40℃ ■吸収液:カセイソーダ水溶液 ■充填塔:ID750×H5150(充填高さ2m)耐食FRP ■充填物:...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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給水内で運転できるように設計!入口塩酸濃度114,444ppmを出口濃…
回収塔で、入口塩酸濃度114,444ppmを出口濃度2,289ppm以下に除去し、 物質収支上、可能な給水内で運転できるように設計しました。 【事例】 ■納入先業種:製鉄 ■設計・設置機器:塩酸回収塔(泡鍾塔) ■棚段塔+充填塔形式 ■設計回収濃度・回収率:18%wt以上・98%以上 ■ガス温度:Max.100℃ ■物質収支上、可能な給水内で運転できるように設計 ※詳し...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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充填高さは3.7m!酸化プロピレンを除去対象物質とした環境装置納入事例…
ピレンを 除去対象物質としています。 充填高さは3.7mで、入口濃度は43,693ppm、出口濃度は 2,185ppmとなっています。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:PO除去装置 E730シリーズ ■処理ガス量:25Nm3/min ■除去対象物質:酸化プロピレン ■ガス温度:70℃ ■入口濃度:43,693ppm ■出口濃度:2,185ppm ■吸...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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φ20μm以上、90%以上の設計除去率!食塩粉塵除去塔の納入事例をご紹…
去対象は乾燥機からでる粉塵で、 濃度は不明です。 Max.70℃の処理ガス温度で、設計除去率はφ20μm以上、 90%以上となります。 【事例】 ■納入先業種:食品 ■設計・設置機器:食塩粉塵除去塔 E730シリーズ ■処理ガス量:40m3/min ■除去対象粉塵・濃度:乾燥機からでる粉塵、濃度不明 ■処理ガス温度:Max.70℃ ■設計除去率:φ20μm以上、90%以...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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除去率は90%以上!ゴム微小粉塵を除去対象とした環境装置納入事例をご紹…
,800Nm3/h、除去対象はゴム微小粉塵。 充填塔はID4515×H7000です。 水による洗浄で、除去率は90%以上になります。 【事例】 ■納入先業種:ゴム製造 ■設計・設置機器:ゴム粉塵除去塔 ■処理ガス量:100,800Nm3/h ■除去対象粉塵:ゴム微小粉塵 ■除去率:90%以上 ■充填塔:ID 4515×H7000 ■充填物:ハイレックス300PP 33....
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量Max.35m3/min!出口濃度を5ppm以下に除去した塩…
Max.250ppmを出口濃度 5ppm以下に除去しました。 吸収液は水で、処理ガス量Max.35m3/min、ガス温度は70℃です。 【事例】 ■納入先業種:ガラス ■設計・設置機器:塩酸ガス吸収塔 EHCUシリーズ ■処理ガス量:Max.35m3/min ■除去対象物質:塩化水素 ■ガス温度:70℃ ■設計除去率:入口濃度Max.250ppmを出口濃度5ppm以下に除...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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亜鉛溶解槽からの排ガスを処理!ガス温度は常温でφ20μm以上、95%以…
を除去対象粉塵とし、連続メッキラインは、 亜鉛溶解槽からの排ガスを処理。 φ20μm以上、95%以上の設計除去率で、ガス温度は常温です。 【事例】 ■納入先業種:製鉄 ■設計・設置機器:硫酸・硫酸亜鉛ミスト除去装置 EHCUシリーズ ■処理ガス量:51m3/min ■除去対象粉塵:硫酸ミスト、硫酸亜鉛ミスト ■設計除去率:φ20μm以上、95%以上 ■ガス温度:常温 ...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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実験室内の空気を発生源のガスと混合!小量高温高濃度アンモニア除去装置を…
、 アンモニアを除去。 入口濃度は100,000ppm、出口濃度は1ppm以下となります。 また本装置は、ユニット化して納入しました。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:小量高温高濃度アンモニア除去装置 ■処理ガス量:1m3/min ■ガス温度:480℃ ■入口濃度:100,000ppm ■出口濃度:1ppm以下 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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