【総合カタログ進呈！】紫外線（UV）殺菌装置・紫外線酸化装置　等

PR【純水・超純水の殺菌や紫外線酸化装置まで！】紫外線殺菌装置ならフナテッ…

40数年前、新しい殺菌手段として、水の紫外線（UV）殺菌装置を開発したフナテック製品の総合カタログです！ 純水・超純水用や工業用水、水産養殖・温泉水用など種類豊富な 紫外線（UV）流水式殺菌装置を中心に紫外線酸化装置、オゾン分解装置までご紹介しております。 【掲載製品】 ■紫外線流水式殺菌装置　RTシリーズ・MSシリーズ・HPシリーズ ■紫外線酸化装置　CXシリーズ・FOVシリー...

メーカー・取り扱い企業： フナテック株式会社 本社　

FT-NIRプロセス分光計『BEAM』※JASIS2024出展

PR受入検査から工程管理、最終製品検査までのさまざまな段階のモニタリングに…

『BEAM』は、FT-NIR分光法の利点を最大限に引き出す単一測定点専用の NIR分光計です。 製造工程を直接かつリアルタイムでモニタリングすることで、 製造のばらつきを改善。 固体や半固体材料の測定に最適化され、パイプライン、ホッパー、 ベルトコンベヤー上に簡単に設置できます。 【特長】 ■さまざまなアプリケーションに対応するFT方式の優位性 ■RockSolidテク...

メーカー・取り扱い企業： ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部

HAST(PCT)

当社で保有する装置は、半導体や多層の基板評価等に適した試験装置です！

『HAST(PCT)』は、樹脂封止された半導体等の電子部品を通常の使用環境より 高い水蒸気圧の雰囲気に晒すことにより、短時間に供試品の内部に水分を 侵入させ、樹脂封止の気密性を評価することを目的にした試験です。 その試験のうち、JIS C 60068-2-66の不飽和加圧水蒸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

インラインセラミックガスフィルター

常に安定した状態で0.003μmの高濾過精度を有するガスフィルターを開…

半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製インラインセラミックガスフィルターです。水や酸素などの不純物の除去を確実に行うための、200℃の高温ベーキングが可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

光学式細孔率・細孔分布測定装置

世界唯一の分光エリプソメーター技術でのEP(光学式ポロシメーター）細孔…

CTE計測も測定可能 ・従来の方式に比べ、短時間での測定が可能（２０分/point) 【仕様】 ・測定可能細孔サイズ（直径）；0.5~65nm ・スポットサイズ；1.2*0.8mm ・測定サンプル構成：単層／多層ともに測定可 ・サンプルサイズ：2~300ｍｍ(フィルム厚さ：50nm~5μm) ・測定時間；20分／point ・溶媒：IPA（イソプロパノール）、メタノール、トルエン、水

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

ウェーハ簡易洗浄機（WCM-01型）

φ300 mmシリコンウェーハを簡易洗浄（ブラシ+水）する装置です。

・洗浄後はエアーナイフウェーハ表裏面の水滴を乾燥します。 ・ウェーハはエッジクランプにて取扱い、表裏面には接触しません。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジャステム