【製品総合ガイド】材料研究開発を加速する高速分子シミュレーション

PR高速分子シミュレーションによる材料研究開発を支援！当社の製品概要をご紹…

当社のMaterials Science Suiteは、幅広い材料研究分野への対応が可能です。 ■密度汎関数理論(DFT)計算・周期系第一原理計算による物性予測 HOMO/LUMO/pKa/溶媒効果/IR/Raman/UV-vis/VCD/NMR/ 酸化・還元ポテンシャル/ 3重項励起状態エネルギー/TADF S1-Txギャップ/蛍光/りん光/振動計算/ 構造最適化/遷移状態計算/反応経路...

メーカー・取り扱い企業： シュレーディンガー株式会社

水系工業用洗浄剤『VB1000』

PR水とミネラルのみの水系工業用洗浄剤『VB1000』

『VB1000』は特殊な製法で作られた水系工業用洗浄剤です その中身は99%以上の水と1%以下のミネラルのみによって構成され、人や環境に悪影響を与えない極めて安全な工業用洗浄剤です。 「分子運動が激しい高いエネルギー性と純水に比べ約25％低い表面張力の高い入り込み性」「㏗=12という高いアルカリ性」「特殊な電気エネルギーによる静電反発効果」の3つの要素で高い洗浄性を発揮します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イノセンス

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

独自高密度スパッタ法　アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店