• フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】 製品画像

    フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

    PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

    本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

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    本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

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  • シリコン(Si)粉末 製品画像

    シリコン(Si)粉末

    Si純度2N~4N、粒度分布50nm~3mmに対応。ニーズに合わせカス…

    ~)、粒体(1~3mm)に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに対応可能です。 【特長】 ■微粉末~粒体の製造方:乾式ジェットミル・乾式ボールミル ■微粉末~粒体は最低1kg~最大約50t/月の出荷に対応 ■超微粉末は最低1kg~最大約500kg/月の出荷に対応 ■出荷時、ロットごとにCOAを提出 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    サブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方:結晶化学気相成長 ■粉砕方:乾式ジェットミル・乾式ビーズミル ■最低1kg~最大約30t/月の出荷に対応 ■出荷時、ロットごとにCOAを提出 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

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