【新製品】脱脂用洗浄剤 『ネクシアS-63』フッ素系洗浄剤

PRHFCを含まないフッ素系洗浄剤！様々な法規制に非該当！PC・ABS樹脂…

『ネクシアS-63』は脱脂洗浄に適したフッ素系洗浄剤です。鉱物油系加工油付着の鋼板・金型・ロール等の手拭き洗浄、金属加工部品の浸漬洗浄等が可能。他フッ素系洗浄剤と比べて、コストパフォーマンスに優れております。HFCを含まないフッ素系洗浄剤のため、環境に配慮した洗浄剤です。 『ネクシアS-63』の主な特長 1)HFC,臭素を含まないため、法規制の該当が少ないことによる扱いやすさ 2)オゾン破壊係数...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カネコ化学

植物性　塗料用洗浄液『ペイントソルブ-W』※動画公開中

PRコーティングジャパン出展商品！シンナーや塩素系溶剤の代替に好適！毒性ゼ…

『ペイントソルブ-W』は、シンナーや塩素系溶剤に代わる、植物性の洗浄液。 今まで洗浄が困難だった“塗装ガン”や“塗料配管”に堆積した 接着剤、インク、塗料などを強力に溶解洗浄することができます。 毒性物質がゼロ。危険物や有機則に非該当で、人や環境への影響を防ぎます。 今後の更なる環境規制を見据えた、安全・安心の洗浄液です。 【特長】 ■洗浄作業の手間を軽減 ■産廃処理費を大幅削減（廃液を再生可...

メーカー・取り扱い企業： インフィニティ株式会社

金属冶金法 ポリシリコン（塊：Lump）

リチウムイオン電池 負極材料としても期待される 冶金法ポリ

＜標準グレード＞ 　　　　　　 　４N（Si純度＞９９．９９％） 　５N（Si純度＞９９．９９９％） 　６N（Si純度＞９９．９９９９％） 　金属冶金法：金属シリコンを溶融させて不純物を蒸発させた後、 　　　　　　　徐々に放熱させ、方向性凝固を行うことにより、 　　　　　　　シリコン純度をアップさせる製造方法。...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 銅（Cu）粉末。 サブミクロン～１ｍｍ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状 銅（Cu）粉末。 Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン～１ｍｍまで、粒...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=14ppm Ni=11ppm W= 9ppm Zn=<1ppm Ca=<1ppm C/O濃度測定（赤外線吸収法） C=0.06wt% O=1.16wt% 粒度（レーザー回析・散乱法） D10=0.40µm D50=1.42µm D90=5.07µｍ ＜β相 D50=1μm - 2μm品...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

３N高純度 シリコン（Si）粉末

Si純度＞99.9% 3N高純度 シリコン粉末

材料：金属冶金法ポリシリコン（4N） 粒度：D50=8µｍー10µｍ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

粒度・材料指定可 シリコン（Si）粉末

用途広がるシリコンパウダー（粉末） 必要スペックに基づき、粒度・使用…

用途に応じて、シリコン原料と粉砕粒度を柔軟にに選定・組み合わせ。 材料：金属シリコン（1101/2202/3303/441/553） 　　　金属冶金法ポリシリコン（4N/5N/6N） 粒度：D50=5µmー50µｍ程度の範囲内でご指定頂けます。 　　　なお、数ミリ～サブミクロン（ナノ）単位まで幅広くご相談頂けます。 　　　（粒度・Si純...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

金属マグネシウム（Mg） インゴット

Mg純度≥99.90～99.95% ： 7.5kg/Ingotから各種…

名称：金属マグネシウム(Mg)インゴット 形態：Ingot(塊) 化学式：Mg CAS No：7439-95-4 製造方法：ピジョン法。 カスタマイズ可能範囲： ・Mg純度：99.90%～99.95%に対応しています。 ・形状・サイズ：7.5kg/Ingotの一般品から ご注文により、各種形状・サイズに対応。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

4N超高純度 シリコン（Si）粉末

Si純度＞99.99% 4N超高純度 シリコン粉末 ＊25元素不…

材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上） Si粉末不純物濃度： 　　　25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析） 　　　→ Si+Others > 99.9979% 　　　粉砕...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

シリコン（Si）粉末

Si純度2N～4N、粒度分布50nm～3mmに対応。ニーズに合わせカス…

～）、粒体（1～3mm）に対応。 プラズマアーク合成により50nmまでの微粉化を実現した『超微粉末』もあり、 超微粉末はSi純度2Nに対応可能です。 【特長】 ■微粉末～粒体の製造方法：乾式ジェットミル・乾式ボールミル ■微粉末～粒体は最低1kg～最大約50t／月の出荷に対応 ■超微粉末は最低1kg～最大約500kg／月の出荷に対応 ■出荷時、ロットごとにCOAを提出 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

一酸化ケイ素（SiO）塊・粉末

サブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

200mm）に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8％、5μmの粉末でSiO純度99.9％などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法：結晶化学気相成長法 ■粉砕方法：乾式ジェットミル・乾式ビーズミル ■最低1kg～最大約30t／月の出荷に対応 ■出荷時、ロットごとにCOAを提出 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 ニッケル（Ni）粉末。サブミクロンスケ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状ニッケル（Ni）粉末。 Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン スケールで...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

酸化マグネシウム (MgO) 粉末 <金属Mg水蒸気反応方式>

高純度金属Mgに高温の水蒸気を反応させた MgO純度99.9%以上の…

1.8ppm ICP発光分光分析装置により元素を定量した後、化学量論による酸化物換算値を算出。 ＜粉体物性（代表値*）＞ 　粒子径分布　　　D50=2.605 µm（レーザー回析・散乱法） 　比表面積　　 4.05 m2/ｇ（レーザー回析・散乱法） ご注文により、さらなる微粉化に対応します。 (代表値*）→量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。 　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

LiB負極用 ３N高純度 シリコン（Si）微粉末

Si純度＞99.9% リチウムイオン電池負極用 シリコン（Si）微…

金属冶金法ポリシリコン（４N）以上を出発原料とする、 3N(Si>99.9%) Si微粉末 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

LiB負極用 ４N超高純度 シリコン（Si）微粉末

Si純度＞99.99% リチウムイオン電池負極用 シリコン（Si）…

金属冶金法ポリシリコン（5N）以上を出発原料とする、 4N(Si>99.99%) Si微粉末 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社