『蒸気2流体洗浄装置 ハンディガンタイプ』

PR30μm以下の水滴と蒸気の超音速噴射で、切削油など頑固な汚れもしっかり…

『蒸気2流体洗浄装置 ハンディガンタイプ』は、水滴と蒸気を超音速で 噴射することで発生する衝撃波（キャビテーション）と せん断力により異物、汚れを除去する装置です。 電気、純水、圧縮空気（or窒素）で動作が可能。 ハンディガンタイプのため汚れを的確に除去できるほか、 装置はキャスター付きで容易に移動できます。 【特長】 ■キャビテーションの効果を利用して汚れを除去 ■薬品を...

メーカー・取り扱い企業： HUGパワー株式会社

切削液の腐敗防止でコスト削減！高pHアルカリイオン水生成装置

PR切削液にアルカリイオン水を混ぜるだけで【切削液の腐敗防止】【加工効率を…

「高pHアルカリイオン水生成装置」は廃液なしで、pH13.2の高pHアルカリイオン水を1日80L～240L生成することができる装置です。 高pHアルカリイオン水は【高い浸透性】【冷却性】【水の腐敗防止効果】【洗浄力】といった特長があり、 切削・研削時にクーラント（切削油）に混ぜるだけで加工効率が向上します。 また、高い冷却効果によって加工時に発生する摩擦熱が抑えられるため、工具寿命の延長...

メーカー・取り扱い企業： クール・テック株式会社

半導体関連装置 「ウェット式エッチング装置」

ドラフト構造でクリーンルーム仕様！エッチング処理やレジスト除去する装置

「ウェット式エッチング装置」は、半導体関連で使用される各ウェハーをバスケットに入れ、X-Y-Zロボットにて、エッチング処理やレジスト除去の作業を行います。 発生ガス、及び空気は、薬品系、有機溶剤系に出来るだけ分けた状況での排気が可能。 使用不可となった薬液（フッ酸、 塩化鉄）と、有機溶剤（アセトン）は付設の専用タンクへ一括排出します。 クリーンルームでも使用できるドラフト構造です。 【...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社