• キャンドポンプ【液漏れしない構造、アンモニア(NH3)等に好適】 製品画像

    キャンドポンプ【液漏れしない構造、アンモニア(NH3)等に好適】

    PRアンモニア混焼発電、タービン&エンジンの燃料移送用途、アンモニ…

    外部漏れの無いキャンドモータポンプが、脱炭素関連の設備で活躍します。 【主な特長】 ◆既存発電所へのアンモニア混焼 ◆アンモニアを燃料とするタービン発電や船舶用エンジンの燃料用ポンプ ◆アンモニアサプライチェーン(貯槽、輸送関連) ◆CCS、CCUS(二酸化炭素回収・貯留技術)に関係する、多種・多様なニーズに対応 幅広い、流量や全揚程をカバーし、各種法規対応も可能です。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社帝国電機製作所

  • 中~大流量タイプ 深紫外線LED水除菌装置 DWM series 製品画像

    中~大流量タイプ 深紫外線LED水除菌装置 DWM series

    PRノーベル賞受賞者と共同開発した深紫外線LEDを搭載。寿命35,000時…

    DWM seriesは本体内部に水を取り込み、内部を通過する水に深紫外線を照射して、水中の細菌・ウイルスを除去します。日機装が提供する各種水除菌製品群の中でも、最大で200L/minの処理が可能な中~大流量タイプです。 水銀は水俣条約により、国際的な規制が始まっています。昨今ではSDGs・ESGへの取り組みがより重要になっており、水銀ランプ装置から深紫外線LED装置への置き換えが増えています...

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    メーカー・取り扱い企業: 日機装株式会社 メディカル事業本部 ヘルスケア事業推進部

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析 【主仕様...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    ◉ 装置運転・レシピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御(真空引/ベント、成膜時間、出力/時間、MFC流量圧力自動制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など)を全自動運転(手動も可能)〜Windows PCでデータロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…

    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Lチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆ 製品画像

    ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…

    ◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    Lチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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