簡易型UVナノインプリント装置ImpFlex Essential

高微細化、低コスト、高スループットのナノインプリントリソグラフィー

要最小限の構成から豊富なオプションによりアップグレートが可能 ○多種モールドによる対応可能 →石英、Ni電鋳棟の他の材料もオプションにより使用可能 ○UV-LED光源によるUV照射 ○バブル消去ガスプロセス対応 ○従来のフォトリソグラフィーに比べ、高微細化、低コスト、高スループット ○さまざまな分野で利用可能な実験装置 →光学デバイス、MEMS（NEMS）、光通信デバイス、回折格子 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック