• プラズマ評価ツール『プラズマインジケータ PLAZMARK』 製品画像

    プラズマ評価ツール『プラズマインジケータ PLAZMARK』

    PRプラズマ処理効果の「見える化」を実現!プラズマインジケータ(TM) P…

    『プラズマインジケータ(TM) PLAZMARK(R)』は、プラズマで変色する色材を用いたプラズマ処理効果の確認用インジケータです。 プラズマ密度に応じて段階的に変色しますので、プラズマの状態を「色で見える化」できます。 変色は不可逆反応のため、判定記録として残せ、工程管理にも利用できます。 また、変色は簡単に数値化でき、他の測定結果との相関を見ることもできます(ただし数値化には別途、色差計...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

  • フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置 製品画像

    フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置

    PRパーティクル除去性能と溶剤の低消耗の2つの機能を兼ね備えたフッ素系真空…

    真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、 精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。 従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。 純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。 また、液の再生利用も容易...

    メーカー・取り扱い企業: 富士ハイテック株式会社

  • ロールtoロール式 減圧プラズマ処理装置『PR Series』 製品画像

    ロールtoロール式 減圧プラズマ処理装置『PR Series』

    ロール状フィルム基材の処理に対応。 減圧プラズマ処理により、アッシン…

    『PR Series』は、減圧下でプラズマ処理が可能なロールtoロールタイプの処理装置です。 レジストアッシング、絶縁膜エッチングをはじめ、 用途に応じた様々な官能基(親水, 親油, 密着性向上,など)を 基材表面に強...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • 平行平板式減圧プラズマ処理装置 真空プラズマ装置 製品画像

    平行平板式減圧プラズマ処理装置 真空プラズマ装置

    各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基(親水、親油、密着性…

    「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • マイクロ波プラズマソース『MIRENIQUEシリーズ』 製品画像

    マイクロ波プラズマソース『MIRENIQUEシリーズ』

    MWPECVD用R&D装置に好適!MW-SURFATRONSは常圧また…

    PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向けで、 リアクター及びプラズマソースは、MWPECVD用R&D装置に好適。 MW-SURFATRONSは常圧又は減圧に対応しています。 【特長】 ■PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向け ■MWPECVD用R&D装置に適したリアクター及びプラズマソース ■MW-SUR...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 5G向けフッ素樹脂への直接めっきや接着剤レス接合をプラズマで実現 製品画像

    5G向けフッ素樹脂への直接めっきや接着剤レス接合をプラズマで実現

    フッ素樹脂をはじめとする難接着材料への直接めっきや異種材料の接着剤レス…

    当社の表面改質技術は、特殊な減圧プラズマ状態で基材表面に官能基を強固に付与しすることで様々な機能を持たせることができます。 特に接着・密着性向上の面では、5G向け回路基板製作に必要な「フッ素樹脂への直接銅めっき」や「接着剤レスに...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研

  • プラズマ窒化処理(イオン窒化処理) 製品画像

    プラズマ窒化処理(イオン窒化処理)

    真空中でプラズマエネルギーを利用した環境重視の窒化処理についてのご紹介…

    窒素原子は、同様に励起してN+のイオンに変わります。 このN+イオンを処理物の表面に帯電させ、活性化窒素元素を拡散させ 表面硬化させる方法です。 一般的には、1から10torrの真空減圧下で400℃から570℃で処理されます。 【特長】 ■処理に使用する熱源がプラズマであり、省エネ ■ガス濃度を容易に変えられ、窒化特性を調整できる ■浸炭性ガスを使用することにより、窒化...

    メーカー・取り扱い企業: 朝日熱処理工業株式会社

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