高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

labsphere(R) ラブスフェア　光学測定システム

光測定の世界標準。LEDなど発光体の光学特性を測定します。

ミナント波長（nm）、相関色温度（K）、色度座標（ｘ、y）、色度図、演色評価数（Ra） ■システム構成 　積分球：10，20，40，40，65，76インチ　 　分光器：マルチチャンネル分光器（温調有、無し選択） 　波長範囲：250‐850nm または350‐1050nm 　校正光源：50lm，450lm，1400lm 　自己吸収補正光源 　校正光源、吸収補正光源用電源 　MtrX‐...

メーカー・取り扱い企業： オプトシリウス株式会社

発熱スライドガラス

自ら熱を発するスライドガラスです

・寸法：76×26-1t（加熱エリア66×26） ・最大加熱温度：200℃ ・ホルダへの付け外しが簡単、直ぐに交換できます。 ・PID制御で精密温調 ・発熱スライドガラス自体にマイクロ流路を加工できます。 ・小さな寸法にカットすることも賜ります。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ブラスト