• 『3D溶接検査装置システム』高速ビート検査 製品画像

    『3D溶接検査装置システム』高速ビート検査

    PR『溶接対象形状をロボットで正確にトレース! 寸法検査・形状検査も可能』…

    『3D溶接ビード検査装置』は、ライン状のレーザ光源を検査ワークに 照射し、その反射光を高さデータとして取得する「光切断法」を 採用しています。 ロボットに取付けた3Dカメラでスキャンニングすることにより 三次元形状を計測できます。 また、検査中、通信でロボット位置・姿勢 情報を取得しているため、 加減速や姿勢変化にも対応可能です。 【特長】 ■自動での高速ビード検査 M...

    メーカー・取り扱い企業: 東日本イワタニガス株式会社 開発本部

  • レーザー損傷閾値(LIDT)測定の代理店始めました! 製品画像

    レーザー損傷閾値(LIDT)測定の代理店始めました!

    PR予期せぬレーザー損傷を避けるためのレーザー損傷試験をお勧めします

    当社では、レーザーオプティクスの損傷を調べることが可能。 顧客に合わせてレーザーへの耐力の測定及び検査など様々な試験に対応し、 損傷原因や欠陥の特定・オプティクスの寿命推定などができます。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■試行錯誤の手間の削減 ■オプティクスの寿命推定が可能 ■オプティクスの品質検査(良品、不良品の判別検査) ■研磨、コーティングの最適化 ■損傷原因や...

    メーカー・取り扱い企業: CBCオプテックス株式会社

  • [TOC]全有機体炭素測定 製品画像

    [TOC]全有機体炭素測定

    TOC計は、試料中の全炭素量 、全有機体炭素量、無機体炭素量(IC:を…

    nic Carbon)、無機体炭素量(IC:Inorganic Carbon)を評価することができる装置です。 ・有機成分含有量を全有機炭素量(TOC)として評価可能 ・液体試料と固体試料の測定が可能 ・全炭素量(TC:Total Carbon)、無機体炭素量(IC:Inorganic Carbon)の測定が可能...

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    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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    [RBS]ラザフォード後方散乱分析法

    固体試料にイオンビームを照射し、ラザフォード散乱によって後方に散乱され…

    RBSは固体試料にイオンビーム(H+,He++)を照射し、ラザフォード散乱によって後方に散乱されてくるイオンのエネルギーおよび強度を測定する手法です。 散乱されたHeイオンの運動エネルギーを測定し、衝突した原子の質量数を調べることで分析サンプルの成分や層構造を評価することができます。 また、固体試料にHeイオンを入射して前方...

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  • 【分析事例】セラミックス材料に含まれる微量金属の価数評価 製品画像

    【分析事例】セラミックス材料に含まれる微量金属の価数評価

    ppmオーダーの微量金属も評価可能です

    てはSIMS(二次イオン質量分析法)やICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析法)などによって評価可能ですが、価数・化学結合状態などといった存在状態の評価には放射光を用いたXAFS(X線吸収微細構造)測定が有効です。本資料では測定例としてセラミックス材料に微量含まれるCeの価数を評価した事例をご紹介します。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • [XRF]蛍光X線分析法 製品画像

    [XRF]蛍光X線分析法

    照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光する…

    蛍光X線分析(XRF: X‐ray Fluorescence)は照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光することによって、元素分析や組成分析を行う手法です。 ・測定範囲の全エネルギー(Na~U)が同時に短時間で測定可能 ・未知試料の分析に適している ・非破壊分析 ・特殊な試料を除き、前処理不要、大気中での分析が手軽に行える ・ハンドヘルド型の装置で動か...

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  • [PL]フォトルミネッセンス法 製品画像

    [PL]フォトルミネッセンス法

    PL:PhotoLuminescence

    発光スペクトルから、様々な情報を得ることが可能です。 ・バンドギャップ約3.5eVまでのサンプルを励起することが可能 ・マッピング機能により、広範囲の情報を得ることが可能 ・約10Kまでの測定が可能 ・一般的に非破壊の測定であり、特殊な前処理が不要 ...

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  • 【分析事例】二次電池正極活物質の構造評価 製品画像

    【分析事例】二次電池正極活物質の構造評価

    活物質の粒径・結晶方位評価、原子レベル観察が可能

    子について高分解能STEM観察を行 い、軽元素(Li,O)の原子位置をABF-STEM像で、遷移金属(Ni,Co,Mn)の原子位置をHAADF-STEM像で可視化した事例を紹介いたします。 測定法:SEM・EBSD・TEM 製品分野:二次電池 分析目的:形状評価、構造評価、製品調査 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。 ...

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  • 【分析事例】有機EL(OLED)発光層の解析 製品画像

    【分析事例】有機EL(OLED)発光層の解析

    発光層のゲストの定量・膜厚評価が可能

    同定を行いました。また、新規に段 差計を用いた発光層の膜厚評価や発光層中におけるゲスト材料の定量を行いました。発光層中のゲスト分子の定性・定量ならびに発光層の膜厚の評価が可能となりました。 測定法:TOF-SIMS・TEM・XPS 製品分野:ディスプレイ 分析目的:組成評価・同定・膜厚評価 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。...

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  • 【分析事例】走査イオン顕微鏡によるCu表面の結晶粒観察 製品画像

    【分析事例】走査イオン顕微鏡によるCu表面の結晶粒観察

    金属多結晶の結晶粒の大きさや分布に関する知見を得ることが可能です

    電子を検出する手法です。二次電子は各結晶粒の結晶方位に応じたコントラストを生じるため、SIMによってCuやAlなどの金属多結晶の結晶粒の大きさや分布に関する知見を簡便に得ることが可能です。本資料では測定例としてCu表面をSIMによって観察した事例をご紹介します。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】イメージセンサの拡散層形状評価 製品画像

    【分析事例】イメージセンサの拡散層形状評価

    試料解体から測定まで一貫して対応します

    本資料では、スマートフォン搭載のイメージセンサ拡散層に関して評価した事例をご紹介します。 半導体のp/n型を判定可能なSCM(走査型静電容量顕微鏡)を用い、拡散層がどのような分布となっているかを評価しました。今回、断面と平面のSCM結果を組み合わせることで、相補的かつ広範囲の情報が得られました。 SCM は、イメージセンサ拡散層の出来映え評価や故障解析に有効なツールの一つです。...詳しいデ...

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  • 【分析事例】AFMデータ集 製品画像

    【分析事例】AFMデータ集

    AFM :原子間力顕微鏡法

    FMは微細な探針で試料表面を走査し、ナノスケールの凹凸形状を三次元的に計測する手法です。 金属・半導体・酸化物などの材料評価だけでなく、毛髪やコンタクトレンズなどのソフトマテリアルまで幅広い材料を測定可能です。 本資料では、様々な材質のAFM像をご紹介します。...

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  • [TDS]昇温脱離ガス分析法 製品画像

    [TDS]昇温脱離ガス分析法

    真空加熱/昇温により発生したガスを温度毎にモニターできる質量分析法。水…

    ■加熱部 試料をステージ上に置き、ステージ下部から赤外線を照射することにより試料を加熱します。 温度制御は、ステージ側にある熱電対にて行ないます。試料上部側の熱電対により試料表面側の温度を測定することも可能です。 ■質量分析部 加熱により発生したガスは加速した電子の衝突よりプラスイオン化され、質量電荷比に応じて分離されます。...

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  • [C-SAM]超音波顕微鏡法 製品画像

    [C-SAM]超音波顕微鏡法

    C-SAMは、試料の内部にある剥離などの欠陥を非破壊で観察する手法です…

    表面だけでなく、表面下の内部構造も非破壊で観察する事が可能です。空気との界面での反射が大きいことから、電子部品のパッケージ内部などに存在する空隙やクラックを高感度で観察できます。空隙箇所の判定は、各測定箇所における超音波の反射波形から判定します。...

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  • 【分析事例】STEM・EDXデータと像シミュレーションによる評価 製品画像

    【分析事例】STEM・EDXデータと像シミュレーションによる評価

    STEM像と原子組成の測定結果から結晶構造の評価ができます

    試料の測定によって得られた結果と、シミュレーションの併用により、結晶構造の評価が可能です。 本資料では、多結晶体であるネオジム磁石において、HAADF-STEMとEDXの測定によって得られた結果と、各々の測...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価 製品画像

    【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

    高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

    半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】SEMとSIMによるCu表面の二次電子像の比較 製品画像

    【分析事例】SEMとSIMによるCu表面の二次電子像の比較

    着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です

    傍の構造評価を行う手法です。一次プローブの違いによってコントラストの現れ方や空間分解能などの違いがあり、着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です。本資料では2手法の比較をまとめるとともに、測定例としてCu表面を観察した事例をご紹介します。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】トランジスタ内部の状態評価 製品画像

    【分析事例】トランジスタ内部の状態評価

    デバイス内部の異常を非破壊で評価します

    外観検査では分からないデバイス等の故障原因を調査するために、X線CTをはじめとする非破壊による評価が必要となる場合があります。 X線CTを用いて不具合のあったトランジスタを測定し、内部の状態を確認しました。 その結果、ワイヤーの断線が確認された他、断線時の熱などの影響で断線したワイヤーの周囲のモールド樹脂が変性していることも分かりました。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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