• ドライポンプ(ドライ真空ポンプ) SST/SSXシリーズ 製品画像

    ドライポンプ(ドライ真空ポンプ) SST/SSXシリーズ

    PR独自設計のスクリューロータによりハードプロセスをこなす、万能ドライポン…

    ◆独自設計のスクリューロータにより、従来ドライポンプでは不向きとされていた凝固性ガス・粉体・生成物・液体などの吸引を含むハードプロセスにおいても安定した運転を実現します。 ●ZEROEDGEスクリュー 排出効率に優れ、堅牢性を重視した構造設計により、ハードプロセスにおいても安定した運転を可能にします。 ●メンテナンス性の追求【省コスト】 設置場所にて、容易に洗浄作業や分解作業ができ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 従来の熱風循環乾燥炉の効率化!高効率型乾燥炉(シェル方式乾燥炉) 製品画像

    従来の熱風循環乾燥炉の効率化!高効率型乾燥炉(シェル方式乾燥炉)

    PR能力とエネルギーを 10%以上向上、設備導入コストを大幅にカット! 新…

    これまで主流であった熱風循環炉において、 時代に合った高効率型(シェル方式乾燥炉)がついに誕生! 乾燥炉の構造を変えることで大きく性能向上いたしました。 高効率型(シェル方式乾燥炉)なら乾燥時間を確保しながら、 乾燥炉の必要面積を下げ、ガスの使用量(ランニングコスト)を 約10%以上削減することができます。 既存の設備でも約90%の乾燥炉で内部改造が可能で、 土日や大型連休を使って改造工事が可...

    メーカー・取り扱い企業: イデア株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    真空『Mini-BENCH-prism 超高温実験

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験(カーボン、…

    ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン), タングステン(メタル) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン), タングステン/モリブデン(メタル) ・有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』 製品画像

    真空『Mini-BENCH 超高温卓上型実験

    卓上小型サイズ実験・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…

    (A)最小構成:チャンバー + コントロールボックス (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン), タングステン(メタル) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン), タングステン/モリブデン(メタル) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    TCF-C500 超高温小型実験Max2900℃

    コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験

    Max2900℃(カーボン)、Max2400℃(メタル) ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケー...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像

    ◆◇◆ R&D用小型縦型実験 TVF-110 ◆◇◆

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状・拡散・熱CVDとして応用…

    小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状・酸化拡散・LPCVD等の簡...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃  製品画像

    MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール2000℃

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』 製品画像

    アニール『Mini-BENCH-prism 超高温実験

    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験(カーボン、…

    ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン), タングステン(メタル) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン), タングステン/モリブデン(メタル) ・有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inch ・7inchタッチパネル操作...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』 製品画像

    アニール『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール

    SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…

    安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール。 ◆主な特徴◆ ・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準) ・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲:φ4-φ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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