三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…

『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。 また、アシスト用プラズマ源も対応可能（ECR、ICP、他）です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

粉体スパッタリング装置

お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします！

【応用例】 ■二次電池電極材料の特性向上 ■レアメタルの有効利用(触媒用途の白金使用量低減) ■粉体の表面修飾(導電性・ぬれ性制御) ■粉体の保護(酸化防止・耐摩耗性) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所