真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃

PR有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…

OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用 高温蒸着ソースです。 固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着（～ 800℃）用セルと高温加熱（～ 1500℃）セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

性質や用途に合わせた『攪拌タンク（反応・濃縮・混合）』

撹拌する対象物の性質にマッチしたタンクを設計・製造！

【製造範囲・概要】 ●用途 撹拌・反応・希釈・濃縮・混合・調合 ●業界 〇薬品・医薬品業界で使用する攪拌釜（槽）、 〇高温・低温反応釜（槽）や遠心分離機など 〇化粧品業界で使用する真空乳化釜や調合釜、唱析槽など 〇食品業界で使用する混合槽や抽出槽など ●素材 ステンレス全般、ハステロイ 一般的によく使われているのはステンレスですが、耐食性を高めたい場合はハステロイでの製造...

メーカー・取り扱い企業： 八洲化工機株式会社