真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

真空フィルム貼付装置｜LP・テープマウンター

PR真空フィルム貼付装置のご紹介！ローラーでの破損問題を解決します

『真空マウンター』は、ストレスを与えたくないワークに対応したモデルの真空フィルム貼付装置です。 ローラーでの破損問題を解決。 真空で貼り付けることでワークに気泡が入らず、貼り付け条件（真空度、着圧）を変更可能です。 デモテストご相談ください。 【特長】 ■ストレスを与えたくないワークに対応 ■ローラーでの破損問題を解決 ■ワークに気泡が入らない ■貼り付け条件を変更可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

【表面処理】発塵防止付与　半導体製造装置関連

半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、真空蒸…

■溶射材料：アルミニウム ■溶射方法：アーク溶射 ■施工効果：真空蒸着時のシールドからの発塵防止...

メーカー・取り扱い企業： 富士岐工産株式会社

【表面処理】耐プラズマエロージョン　半導体製造装置関連

半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イット…

■溶射材料：イットリア ■溶射方法：プラズマ溶射 ■施工方法：耐プラズマエロージョン ■施工実績：半導体製造装置関連...■溶射材料：イットリア ■溶射方法：プラズマ溶射 ■施工方法：耐プラズマエロージョン ■施工実績：半導体製造装置関連...

メーカー・取り扱い企業： 富士岐工産株式会社

【表面処理】発塵防止付与　アルミニウム溶射

半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、真空蒸…

■溶射材料：アルミニウム ■溶射方法：アーク溶射 ■施工効果：真空蒸着時のシールドからの発塵防止...

メーカー・取り扱い企業： 富士岐工産株式会社

【表面処理】耐プラズマ性付与　イットリア溶射

半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イット…

■溶射材料：イットリア ■溶射方法：プラズマ溶射 ■施工方法：耐プラズマ性付与...■溶射材料：イットリア ■溶射方法：プラズマ溶射 ■施工方法：耐プラズマ性付与...

メーカー・取り扱い企業： 富士岐工産株式会社