小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

分析・計測製品　ラングミュアプローブ測定ユニット

シングルラングミュアプローブはOリング軸シール方式により、真空容器内で…

プロセス用に限定し手動操作とすることにより簡素化しました。屈曲型は関節により先端を任意に曲げられる構造とし、フランジの直進方向以外の測定を可能にしています。 関節部は真空外から操作できませんが探針部全体が回転しますので円を描けます。直線移動とあわせ広い範囲の測定が可能です。どちらも規定のストローク範囲内を直線で移動させ、測定したい部分１点１点を測定していきます。...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

MBE関連製品　MBE装置

基板サイズ1”～6”、Ⅲ－Ⅴ族、Ⅱ－Ⅵ族対応等お客様の使用環境・使用目…

【特徴】 ○ARIOSの超高真空技術を駆使しており、クリーンな真空での成膜が可能です。 ○分子線セル、基板回転加熱機構等主要部品は、加熱脱ガス処理を行っています。 ○RHEED、BFM、ラジカル源等豊富なオプションが選べます。...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

プラズマ関連製品　RFラジカルビーム源　IRFS-504

ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し、差圧により…

が目視確認できるビューポートを標準装置しております。 　 発光モニターや分光器を使用して、放電状態・励起状態を確認できます。 ○完全金属シール、200℃ベーカブル対応によりMBE装置等、各種超高真空装置に使用可能です。 ○分子線セルポート取付を前提に設計されているため、従来型のMBE装置に増設できます。 ○自動マッチング機構により、操作が簡単であり、長時間安定した動作が可能です。 ●...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社