• フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】 製品画像

    フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

    PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

    本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • ヘリウムガス 製品画像

    ヘリウムガス

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...

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    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ヘリウム 製品画像

    ヘリウム

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...

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    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ヘリウム 回収 製品画像

    ヘリウム 回収

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...

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    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ガス回収装置 製品画像

    ガス回収装置

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...

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    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ヘリウムガス 回収装置 製品画像

    ヘリウムガス 回収装置

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...

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    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

  • ヘリウム 回収装置 製品画像

    ヘリウム 回収装置

    プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

    要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa~数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の要求仕様に必要な機器の全てを使用し装置製作を...

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    メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

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