FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

【エッチング、スパッタリングの冷却水温調】チラーPCUシリーズ

アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…

【エッチング、スパッタリングの冷却水温調】 基板冷却のプレートや真空チャンバ内の冷却水の温度と流量、吐出圧力を一定に保ちます。 ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー 【選べる3シリーズのチラー】 1.PCU-NEシリーズ：ノンフロン冷媒を使...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピステ

真空溶解炉（FVM シリーズ）

溶解量0.3kg～1500kg（鉄換算）まで対応！実験用小型機から生産…

『FVM シリーズ』は、誘導撹拌作用で脱ガス効果と、真空チャンバ内での 溶解であるため、不純物の溶湯への混入が防げる真空溶解炉です。 実験用小型機から生産用設備まで豊富な実績があり、溶解量0.3kg～1500kg （鉄換算）まで対応できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工業株式会社 滋賀工場

【資料】真空集中排気システム『VIE-system』

真空排気省エネソリューション！半導体デバイス工場の真空ファシリティへの…

当資料は、ベックが取り扱う、真空集中排気システム『VIE-system』の ご紹介資料です。 現在の排気システムの問題点をはじめ、真空集中排気システムの紹介や VIE-system導入の効果などを掲載しています。 是非、ダウンロードしてご覧ください。 【掲載内容】 ■ロードロック室 現在の排気システム ■ロードロック室 現在の排気システム（例） ■ロードロック室 真空集...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ベック

ナノインプリント装置　LTNIP-5000

LTNIP-2000の上位機種。プレス圧最大20MPa。

【主な特徴】 ○低圧対応 熱光ハイブリットナノインプリント装置 ○プレス圧20MPa/真空チャンバ対応 ○加圧温度最大250℃ ○露光波長248mm,365mm,436mm ○最大Φ6インチ/モールド□40mm 【その他の特徴】 ○低圧で精密なプレスを実現するため、プレス機構に...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

ペルチェ 温度チャンバー 「PG-1506」

窒素ガス、乾燥空気導入チャンバーにより、低温試験時での結露がありません

ペルチェ 温度チャンバー 「PG-1506」は、上面が耐熱ガラスの透明扉ですので、視認性がよく、また、発光デバイスの試験、顕微鏡観察、カメラ観察による評価に適しております。 窒素ガス、乾燥空気導入チャンバーにより、低温試験時での結露がありません。 【特徴】 ○温度範囲　-40～150℃ 対応 ○扉はフリーストップ構造により、任意の角度で保持している ○MSA　デジタル温度コントローラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー