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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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【技術資料進呈!】『赤外線ヒーターの種類による違いと選び方』
PR自社の加熱・乾燥プロセスに合う赤外線ヒーターがわかる!赤外線ヒーターの…
『赤外線加熱技術シリーズ』は、真空紫外から中波長赤外線までの波長領域 を網羅する工業用特殊光源を扱うエクセリタスノーブルライトジャパン (旧ヘレウスノーブルライト)が、様々な加熱の種類について解説している 技術資料シリーズです。今回は、赤外線加熱・乾燥プロセスのための 「知っておきたいシリーズ」第4弾! 工業用に用いられる赤外線ヒーターには多くの種類がありますが、その種類 や違いな...
メーカー・取り扱い企業: エクセリタスノーブルライトジャパン(旧ヘレウスノーブルライトジャパン)株式会社
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ELID搭載 研削盤『ヒカリオン(R)・ラップ研削盤III型』
ELID(電解インプロセスドレッシング)搭載型のラップ研削盤!片面/両…
ELID(電解インプロセスドレッシング)搭載型 ラップ研削盤 ■□■特徴■□■ ■片面ラップ、両面ラップ研削が可能 ■一定圧での研削が可能(圧力転写型加工) ■強制切込みによる研削が可能(運転転写型加工) ■ワークの保持に真空チャックを採用、ワークの着脱が簡便 【ヒカリオンラップ研削盤の研削加工形態】 1)高能率研削 粗粒メタルボンド砥石を用いた強制研削 2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マルトー 本社
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研磨量を精密にコントロール!微細穴の内面まで電解研磨を施す事が可能!
『ステンレス電解研磨』は、超真空用チャンバーなどの表面粗度の改善や 薬品タンク等の洗浄性向上、細菌付着防止や溶接部品のコゲとりに 適しています。 電解研磨を施す事により、ステンレスが本来持つ不働態皮膜がさらに 強固になり、防錆能力が向上。六価クロム等有害な物質を使用していないため グリーン調達基準をクリアいたしております。 また、電解研磨プロセス温度が低温の為、熱的影響をうけま...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三栄精機工業
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【事例集】レーザー干渉式リニア変位センサによるQA&QC
ナノメートル精度で変位・変形・振動を計測。超高真空・高磁場対応…
株式会社日本レーザー -
ドライポンプ(ドライ真空ポンプ) SST/SSXシリーズ
独自設計のスクリューロータによりハードプロセスをこなす、万能ド…
神港精機株式会社 東京支店