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21件 - メーカー・取り扱い企業
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デモ/分析受付中 粒子の“粒度分布（粒子径分布）・粒子形状”を精度良く…
SYNC(シンク)は、高精度な粒度分布測定と画像解析による形状評価を 1台の装置で実現した粒度分布・粒子形状測定装置です。 3本レーザ光学システムにより、粒子からの散乱光を0～165度の 高角度にて連続面として検出し、粒度分布の高分解能測定を実現。 円形度、アスペクト比、凹凸度、円相当径、楕円短径、楕円長径、 フェレー径、等の評価が可能です。 【特長】 ■測定範囲：粒子径...
メーカー・取り扱い企業： マイクロトラック・ベル株式会社
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試料片の機械的な作製のために
顕微鏡解析に使用する試料片を作製する工程の一つに、金属組織検査用の研磨があります。金属表面から材料を除去するためには、一般に粗粒の研磨剤から次第に細粒のものに切り替えながら、求められる表面性状が得られるまで研磨します。研磨時には砥粒は結合剤に埋め込まれた状態にあり、琢磨により結合が劈開します。...
メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社
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自動研磨では出来ない形状や大きさなどにも柔軟に対応いたします
【各種資材】 ■研磨紙：耐水性 #80～#3000 ■研磨クロス：天然シルク・不織布・不織布スエードの3タイプ5種 ■研磨剤：ダイヤモンドスラリー3種・アルミナスラリー3種 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： オーイーエス株式会社
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スパッタリングターゲット、CMPスラリーなど、微量不純物分析の前処理に…
・横幅：50 cm 高さ：47 cm 奥行：79 cm ・温度：最大300℃ 、 圧力：最大199bar、 出力：最大2000W ・最大サンプル数:28 CMPスラリー：研磨剤、酸化剤（酸化性物質）、キレート剤、腐食抑制剤 スパッタリングターゲット：アルミニウム、銅、ステンレス、タンタル、ニッケル ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン
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一切の研磨剤を用いず独自の成型技術により、接合面を成形しているジョイン…
SPCジョイントの接続部分は無色透明で内部が良く見えます。 温度計の目盛などの視認性に優れています。 透明ジョイントを含む一般的すり合わせジョイントは、砂を研磨剤として大きな凸凹を無くして接触両面を仕上げています。 ＳＰＣジョイントは一切の研磨剤を用いず柴田科学独自の成型技術により、接合面を成形しているジョイントです。 よって、優れた表面加工によって気...
メーカー・取り扱い企業： 柴田科学株式会社
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【樹脂埋め・研磨不要！】金属加工品の「熱処理硬化層深さ測定」
「X線による新たな測定法」により、硬化層深さ測定の検査コストを削減！
樹脂埋め、鏡面研磨などの前処理工程や 研磨剤、レジンなどの消耗品を削減！ OK/NGの自動判定が可能！ 【用途】 ■焼入れ処理をした鋼の硬化層深さ測定に （浸炭、高周波焼入れ等） 【検査の改善】 ■検査者のスキルに頼ら...
メーカー・取り扱い企業： パルステック工業株式会社
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【期間限定】用途例の資料プレゼント！ CAMSIZER X2は粒子径…
様】 ■測定原理：動的画像解析式（ISO 13322-2） ■測定範囲：0.8μm～8000μm(8mm) ■評価項目：“粒子径分布” 短径、長径、面積平均径 “粒子形状” 研磨剤の尖り度；円形度、凸度、対称性 造粒粉、顆粒中の破壊された粒子；円形度、アスペクト比 ■測定対象：セラミックス粒子、3Dプリンタ用金属粒子、研磨剤、セメント、骨材、 砂（鋳型成形砂、建築材料...
メーカー・取り扱い企業： マイクロトラック・ベル株式会社
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水平往復運動とタップで短時間に分級可能なタップ式ふるい振とう機
製造工程の品質の監視、仕掛または、完成品全てに使用可能。 特に活性炭、研磨剤、耐火物、シリカゲルやダイヤモンドなどの分級で規格化されています。 【特長】 ・水平往復運動とタップの併用 ・使用電源の周波数に影響されない回転数とタップ数 ・対応ふるい外径φ200ｍ...
メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社
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工業用カメラ内視鏡
●先端ヘッド径10ｍｍ（6mm小径ヘッド2009年夏頃新発売予定）、挿入部完全防水、耐ケミカル、耐油、耐研磨剤、ハウジング部は防滴 ●直視55°焦点距離10mm〜無限大 自動ピント調整 ●2.5インチ液晶カラーモニター。解像度320x240 ●フレキシブルな曲げ状態を保持出来るステイロックタイプ。許容曲げ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社トラストワージー 株式会社トラストワージー
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上水道、簡易水道など、浄水・配水・給水専用 遊離残留塩素計
主に上水道等の遊離残留塩素を連続測定するコストパフォーマンスに優れた残留塩素湿度計です。測定部は、回転式や微振動型とは異なる機械的駆動部を有さないシンプル構造で、ビーズによる機械的研磨洗浄と外部操作により電気化学的洗浄機能を併用することで電極の化学的汚れも防止でき、長期間安定した動作をお約束します。 ...【特徴】 ■３電極式ポーラログラフ方式センサ採用のため、検水中の干渉物質や 電導度の...
メーカー・取り扱い企業： マイクロテック株式会社
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金属試料片を作製する最終工程で、金属組織検査用の研磨と同様にポリッシン…
金属組織検査用のポリッシングは幾つかの段階に分かれ、次の段階に進むほど使用する研磨剤の粒径が小さくなります。一般に、この工程は予備ポリッシング、中間ポリッシング、最終ポリッシングの3段階に分けられます。 金属組織検査用の琢磨では、金属材料の微細構造組織が現出するように、試料...
メーカー・取り扱い企業： ヴァーダー・サイエンティフィック株式会社
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マーポスＰ３ＳＥは、アコースティック・エミッション技術に基づく研削盤用…
、オペレーター、砥石及び機械への甚大な損傷のリスクの低減 ○ドレスコントロールは、砥石・ドレッサーの接触を検知し、ドレスサイクルの時間短縮や砥石のダメージを予防 ○極端な切り込み条件や高価格な研磨剤を用いるＣＢＮホイールでは、Ｐ３ＳＥの特殊なアコースティック・アナライザーは効率的なドレス操作が可能 ○モニタリングシステムは、研削作業コストの低減、砥石寿命の向上 ○モニタリングシステムは、...
メーカー・取り扱い企業： マーポス株式会社
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【プロセス分析計 技術資料】CMT工程の過酸化水素を全自動で測定
プロセス分析計 / オンライン分析計でCMT工程における過酸化水素の濃…
ケミカル・メカニカル・ポリシャ«CMP»は、シリコンウェハ表面を滑らかにしたり研磨したりするために使用される主要な技術の1つです。 一般的には、この工程では、脱イオン水、CMPスラリー(コロイド状シリコンやアルミナ液体分散体)、および過酸化水素(強酸化剤)を一定の濃度と比率で混合する工程です。 過酸化水素は経時的に劣化するため、CMP工程を効率よく繰り返し行うためには、その濃度をオンラインで常...
メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社
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供給・分注タンクの容量を細かくカスタマイズできる薬液自動軽量混合装置な…
特長】 ＜有機溶剤自動計量装置＞ ■キャニスター缶など、専用容器内の溶剤を正確、安全に計量 ■ポリ容器やガラス瓶などに分注 ■酸・アルカリ溶液などにも対応可能 ＜薬液自動調整装置＞ ■研磨剤などの薬品を加熱・撹拌 ■試薬の投入、合成/分離反応、ろ過工程などを自動で実施 ■各試薬の滴定量などは細かく設定可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社
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塩を含む溶液中のTOC濃度の分析が可能です
はNPOC法（不揮発性有機体炭素：Non-Purgeable Organic Carbon）を用いた海水の分析事例を紹介します。TOCを再現性良く測定することができ、他にも塩を含む溶液、メッキ液、研磨剤等幅広い分野に適用可能です。...
メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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