• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 結晶欠陥検査装置『EnVision』 製品画像

    結晶欠陥検査装置『EnVision』

    非破壊/非接触!nmスケールのウェハー内部の拡張欠陥の検出とモニタリン…

    『En-Vison』は、転位欠陥、酸素析出物、積層欠陥などのウェハー内部の 結晶欠陥を非接触・非破壊で測定・評価ができる結晶欠陥検査装置です。 欠陥サイズ(15nm~サブミクロン)と密度(E6~E10/cm3)の両方で ハイダイナミックレンジを提供。 ウェハー深さ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式) 製品画像

    結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

    結晶欠陥分析装置(非接触、非破壊式)

    結晶欠陥分析装置 SIRM-300は、非接触、非破壊にて結晶欠陥測定が可能な光学測定器です。 様々なバルク特性解析(バルク/半導体ウェハーの表面付近の酸素、金属 堆積物、空乏層、積層欠陥、スリップライン、転位)が可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 結晶欠陥測定装置 (光散乱断層撮影式) 製品画像

    結晶欠陥測定装置 (光散乱断層撮影式)

    結晶欠陥測定装置 (光散乱断層撮影式)

    シリコンウェハーの結晶欠陥が高速測定可能。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

  • 超高感度DLTS バルク内欠陥・界面準位測定装置 製品画像

    超高感度DLTS バルク内欠陥・界面準位測定装置

    不良及び結晶欠陥の解析に有効!幅広いクライオスタット用のインターフェイ…

    【その他の特長】 ■簡単に深さ方向のプロファイル、トラップの分布状態、元素及び欠陥の特定ができる ■不良及び結晶欠陥の解析に有効 ■測定結果をライブラリーにある汚染物質のDLTS信号の羅列と比較することで、  容易に汚染物質の特定が可能 ■高感度アナログ/デジタルロックイン平均法を採用したユニークなシス...

    メーカー・取り扱い企業: 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

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