• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • FZウェーハ FZシリコン製品 ガスドープドFZシリコン 製品画像

    FZウェーハ FZシリコン製品 ガスドープドFZシリコン

    汚染物質の少ないFZ法で製造された高品質・高純度・高抵抗のFZシリコン…

    ガスドープFZシリコンは、単結晶の引き上げをドーパントガス中で行なう事によって、不純物をドーピングしたFZシリコンです。 弊社では高品質・高純度FZシリコンのご提供が可能です。 現在、FZシリコンは汚染物質の少なさから、既存の...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン 製品画像

    FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン

    半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用できます

    て使用されている ○半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用可能 【仕様】 ○直径:50mm, 75mm, 100mm, 125mm, 150mm, 200mm ○結晶方位:<100>or<111> ○伝導型(ドーパント):N(Phosphorus) ○抵抗率:30-500,600 オーム 程度 ○抵抗率公差:+/-10% 程度 ○面内抵抗率分布:< 3-...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

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