• 単結晶粒(真空蒸着材/錠剤) 製品画像

    単結晶粒(真空蒸着材/錠剤)

    PRLiF粒など、各種結晶粒(真空蒸着材)取り揃えております。KBrヘキカ…

    当社は、光学結晶メーカーならではの豊富な品揃えとスピーディーな対応で、 多種・少量の研究・試作用製品から量産品まで、ご要望にお応えします。 真空蒸着材 単結晶粒のサイズは2-5mm。記載されたサイズ以外も対応可能です。 また「KBrヘキカイカット品」は、"KB4SQ-1"(4x4x1 mm)や"KB7SQ-1-2"(7x7x1-2 mm)を ラインアップしております。 【真空蒸着材 ラインア...

    メーカー・取り扱い企業: ピアーオプティックス株式会社

  • 半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】 製品画像

    半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】

    PRどんな複雑なサファイア加工依頼にも挑戦します。1個からでもお気軽にお問…

    創業77年の老舗サファイア製造メーカーです。 サファイアの大型結晶を自社で育成しているため、1mm以下の微細な製品から 写真のような300mm程度の大型窓の製作も可能です。 設計段階からお客様のご要求に寄り添い、品質的/コスト的に最適なカスタム製品を共に作り上げていくことが得意です。 1個からのお問い合わせも歓迎しておりますので、ご遠慮なくお問い合わせください。 切断、研削、研磨といった基本的...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社信光社

  • 半導体結晶『量子ドット』 製品画像

    半導体結晶『量子ドット』

    高い量子収率と非常に強い発光を実現!カーボンナノ素材として紫外から遠赤…

    『量子ドット(Quantum dot)』とは、「一辺10nm程度以下の 半導体結晶」のことを指します。 カーボンナノ素材として紫外から遠赤外までの幅広い波長域で、 高い量子収率と非常に強い発光を実現。 用途としてはオプトエレクトロニクス、センサー、イメージング、 ...

    メーカー・取り扱い企業: 三栄化工株式会社

  • 半導体基板及びその製造方法、並びにそれに用いる気相成長装置 製品画像

    半導体基板及びその製造方法、並びにそれに用いる気相成長装置

    物性定数の相違に起因した反りが両面間で相殺!反りの小さい半導体基板の製…

    GaN基板の反りの問題が、低歩留まりによる高コスト化、及び低結晶品質、 小面積の低品質を招き、その結果、GaN基板の普及を妨げる最大の要因と なっています。 当発明は、気相成長法により反りの小さい半導体基板を製造することを 課題としたものです。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社山口ティー・エル・オー

  • GaN基盤 製品画像

    GaN基盤

    バンドギャップの広さとスイッチングの速さ、オン抵抗が低いことも有利なポ…

    でお気軽にお問い合わせください。 【基本仕様(一部)】 ■直径:Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6" ■GaN膜厚:3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、6μm、~100μm特別指定可能 ■結晶方位:C-axis(0001) ■導電タイプ:Un Dope、N-type、P-type ■XRD:(002)≦300arsec、(102)≦400arsec ※詳しくはPDF資料をご覧い...

    メーカー・取り扱い企業: エムシーオー株式会社

  • 半導体基板の製造方法 製品画像

    半導体基板の製造方法

    半導体基板の製造方法の技術分野などに!結晶品質が良好なHT-半導体層を…

    当発明は、ベース基板上に結晶品質が良好な半導体層を得ることを 目的としています。 ベース基板の表面を被覆する薄膜に形成された多数の開口から、 露出したベース基板の表面から相対的に低温で半導体を堆積させて、 薄膜上に...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社山口ティー・エル・オー

  • TEMによる電子部品・材料の解析 製品画像

    TEMによる電子部品・材料の解析

    TEM(透過型電子顕微鏡)は電子部品の故障部位観察、長さ測定、元素分析…

    TEMは高倍観察のみならず、EDS、EELSによる元素分析、 あるいは電子線回折による結晶構造、面方位、格子定数等の 解析を行う事ができます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス

  • 【DL可STEM/EDS】STEM/EDSによる半導体絶縁膜評価 製品画像

    【DL可STEM/EDS】STEM/EDSによる半導体絶縁膜評価

    STEM-EDS観察は半導体のPoly-Si(ポリシリコン)間の絶縁膜…

    ることで、試料の組成に関する情報(原子番号を反映したコントラスト像)が取得できます。 加えて以下の特長もあります。 ・電子線の入射角度を変えることで、回折コントラストの変化を観察 ・観察対象が結晶質であるかの判断 ・結晶内にある結晶欠陥(転位、双晶等)の情報の獲得 本事例では 「STEM-EDSによる半導体絶縁膜評価」 を紹介しています。 本事例は問題なしの結果でしたが、異常検...

    メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社

  • 硫化スズナノシート(ブラック) 製品画像

    硫化スズナノシート(ブラック)

    ガスセンサー・太陽電池などに使用可能!高配向性と低抵抗の特長を持ってい…

    高配向性と低抵抗の特長を持っています。 硫化スズ(SnS)は希少金属や有害元素を含んでおらず、硫化スズを 構成する元素も自然界に豊富に存在することから、人体や環境に 配慮した材料。 結晶色はブラックで、トランジスタ・二次電池負極材などの用途に 使用できます。 【特長】 ■P型半導体で2インチサイズの基板上に製作することが可能 ■高配向性と低抵抗を有する ■人体や環境に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カルコジェニック

  • Rainbow photonics 社 製品画像

    Rainbow photonics 社

    Rainbow photonics社の製品のご紹介です

    フォトニクス )社はスイス・チューリッヒにあり、、ETH(スイス連邦工科大学チューリッヒ校)非線形オプティクス研究グループからスピンオフして1997年に設立しました。 当社は世界唯一のTHz用有機結晶メーカーで、DSTMS、OH1、DASTなどの結晶の販売にとどまらず、これら有機結晶や、各種フェムト秒レーザーを組み込んだ THzイメージング装置も製造しております。 有 機結晶は、従来の光伝導ア...

    メーカー・取り扱い企業: プネウム株式会社 本社

  • 半導体材料『酸化ガリウム』 製品画像

    半導体材料『酸化ガリウム』

    日本発の新しい半導体材料!世界中の研究・開発機関へ優れた材料を届けます

    『酸化ガリウム』は、融液成長法でバルク結晶の製造を行うため、 高速な成長が可能な半導体材料です。 気相成長法でバルク結晶を製造するGaNやSiCと比べ、基板の低コスト化が 可能とされています。 また、絶縁破壊電界強度がGaN...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ノベルクリスタルテクノロジー 本社

  • 高純度アルミナセラミックス(SAPPHAL) 過酷な条件に耐える 製品画像

    高純度アルミナセラミックス(SAPPHAL) 過酷な条件に耐える

    F系プラズマ雰囲気下、過酷な条件に耐える強者!

    サファイアに近い特性を持った多結晶アルミナです。 高純度であると同時に気孔がほとんど無い緻密な焼結体です。 また、結晶粒径の揃った均一な組織構造を持つため、プラズマ雰囲気の過酷な環境に耐える事が出来ます。 【特徴】  ・...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 株式会社フェローテックホールディングス 会社案内 製品画像

    株式会社フェローテックホールディングス 会社案内

    【動画公開中!】フェローテックの製品は見えないところでビジネスやインフ…

    英製品  ・セラミックス製品  ・シリコン製品 ・SiC製品  ・ウエーハ製品 ■電子デバイス事業  ・サーモモジュール ・磁性流体 ・パワー半導体用基板 ■太陽電池関連事業  ・シリコン結晶製造装置 ・石英るつぼ ・太陽電池用シリコン ※その他 業務用洗濯機などの産業機器関連 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フェローテックホールディングス

  • ハイキス株式会社 事業紹介 加工事例のご紹介 製品画像

    ハイキス株式会社 事業紹介 加工事例のご紹介

    素材の特性を最大限に引き出す!確かな技術力で生み出された製品を多数掲載…

    ハイキス株式会社は、半導体部品製造 各種機能部品製造を行っている 会社です。 ファインセラミックス・ガラス・結晶素材等を中心に、これまでの 経験に基づいた確かな技術力で様々な製品を作成しております。 お客様の目的・要望に応じた原料の選定と製造方法の選択によって、 素材が持つ優れた特性を最大限に引き出...

    メーカー・取り扱い企業: ハイキス株式会社

  • FZウェーハ FZシリコン製品 ガスドープドFZシリコン 製品画像

    FZウェーハ FZシリコン製品 ガスドープドFZシリコン

    汚染物質の少ないFZ法で製造された高品質・高純度・高抵抗のFZシリコン…

    ガスドープFZシリコンは、単結晶の引き上げをドーパントガス中で行なう事によって、不純物をドーピングしたFZシリコンです。 弊社では高品質・高純度FZシリコンのご提供が可能です。 現在、FZシリコンは汚染物質の少なさから、既存の...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン 製品画像

    FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン

    半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用できます

    て使用されている ○半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用可能 【仕様】 ○直径:50mm, 75mm, 100mm, 125mm, 150mm, 200mm ○結晶方位:<100>or<111> ○伝導型(ドーパント):N(Phosphorus) ○抵抗率:30-500,600 オーム 程度 ○抵抗率公差:+/-10% 程度 ○面内抵抗率分布:< 3-...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • 高純度黒鉛製品「半導体をはじめ様々な産業で活躍」 製品画像

    高純度黒鉛製品「半導体をはじめ様々な産業で活躍」

    半導体をはじめ様々な産業で活躍  高密度/高純度な特殊炭素材料  Si…

    高均熱特性  ・高純度グレード:特殊炭素材料は、さらなる耐酸化消耗性を備え、半導体用途に適した高純度グレードも取り揃えております。  ・Fine Grain コーティング:枚葉サセプター用には、結晶の緻密なFine Grain コーティングもございます。 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • NIC BOND NB Sires 接着剤選定のための事例集 製品画像

    NIC BOND NB Sires 接着剤選定のための事例集

    接着剤の選定前に読んでおきたい!たった10分で読める、接着剤の導入事例…

    でおきたい!たった10分で読める、接着剤の導入事例集です。光学用・絶縁放熱性・導電性の接着剤のアレコレをわかりやすく解説しています。 NICBONDとは、長年の経験で蓄積された応用化学系知識の結晶である自社開発接着剤です。 幅広い用途に対応できる通常ラインアップ製品はもちろん、お客様それぞれのニーズにお応えする「ビスポーク(be spoke)」対応も行っております。 【掲載内容】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダイゾー ニチモリ事業部

  • 【分析事例】ワイドギャップ半導体β-Ga2O3のドーパント存在 製品画像

    【分析事例】ワイドギャップ半導体β-Ga2O3のドーパント存在

    ミクロな原子構造を計算シミュレーションによって評価可能

    ます。近年、β-Ga2O3はSiまたはSnのドーピングでn型化することが報告されています。本資料では、β-Ga2O3にSiもしくはSnをドープしたモデルに対して構造最適化計算を実施し、各ドーパントが結晶中でどのサイトを占有しやすいかを評価しました。続いて、得られた構造モデルから状態密度を計算し、ドーピングによる電子状態の変化を調査しました。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 再生シリコンウェーハ 製品画像

    再生シリコンウェーハ

    独自の膜除去技術・研磨技術で高品質な再生ウェーハをご提供いたします

    質管理のもと、 お客様の様々なニーズに対応。 各仕様、各種別Si材料提供し、用途に合わせた加工を承ります。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。 【仕様(直径:200mm)】 ■結晶軸・方位:< 100 >0 ±0.5 ノッチ ■導電型・抵抗値:P/N:0.01~100Ωcm ■ウェーハ厚み:700um~725um±25um ■平坦度  ・GBIR:≦10um  ・W...

    メーカー・取り扱い企業: SE TECH INTERNATIONAL合同会社 本社

  • 半導体材料 製品画像

    半導体材料

    結晶シリコン成長時に使用されるドーパント材料のトータルサプライヤーです

    当社では、半導体製造工程で使用されるさまざまな材料を提供しております。 P型ドーパント材料のボロン、ガリウム、N型ドーパント材料の赤燐、 アンチモン等を主にご提供いたします。 また、半導体工程において使用されるCVD材料・イオン注入材料等も 取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【取扱品目】 ■シリコンドープ材料 ■イオン注入材料 ■CVD・拡...

    メーカー・取り扱い企業: ヤマナカ アドバンス マテリアル株式会社

  • 導波路カップリングプリズム 製品画像

    導波路カップリングプリズム

    レーザ光を薄膜光導波路に、入力、伝搬、出力するためのルチルカプラプリズ…

    ルチル単結晶は、屈折率が高く複屈折性が大きいため、 偏光子や分光プリズムなどの光学アプリケーションに最適です。 また、熱的・化学的にも非常に安定な物質です。 当社では、結晶欠陥の少ない良質ルチル単結晶を製造、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社信光社

  • ナノシリコンの最新技術と応用展開 製品画像

    ナノシリコンの最新技術と応用展開

    ナノシリコンの最新技術と応用展開

    序章 ナノシリコン応用の最新動向 第1章 フォトニクス 1. シリコンフォトニクス 2. シリコンフォトニック結晶 3. ナノシリコン発光材料・デバイス4. シリコン量子構造の光増幅 5. ナノ構造シリコンの光導電 6. シングルフォトン検出 7. ナノシリコンの光増感作用 第2章 エレクトロニクス...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社AndTech

  • 導電性ダイヤモンド  コーティング【※動画あり】 製品画像

    導電性ダイヤモンド コーティング【※動画あり】

    ダイヤモンドを成膜してみませんか?試作から量産まで対応!導電性ダイヤモ…

    成膜方式:熱フィラメントCVD法 膜種:多結晶ダイヤモンド 成膜範囲:最大 φ150mm 膜厚:~15μm 対応基材:Si、SiC、Nb、Mo、Ti、W 水処理、電解合成、電解、センサー、医療用途に可能性は無限大です。 導電性ダイ...

    メーカー・取り扱い企業: 松尾産業株式会社 東京支店

  • 株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介 製品画像

    株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介

    液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術!

    に扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応(CVD)させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。 当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開 することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野 で利用することができます。 【特長】 ■液体、特に水から作る ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FLOSFIA

  • 単結晶シリコンインゴット 製品画像

    結晶シリコンインゴット

    主にCZ法とFZ法を採用し、単結晶シリコンの成長からスライス、エッチン…

    素材:単結晶シリコン(半導体用、ソーラー用) 製法:CZ、FZ サイズ:Φ2”、Φ2.5”、Φ3”、Φ4”、Φ5”、Φ6”、Φ8”、Φ12”、Φ14”、Φ16”、Φ18” ※ソーラー向け:□125x125...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社同人産業

  • 平面度 30nm【超精密ラップ】【鏡面研磨 製品画像

    平面度 30nm【超精密ラップ】【鏡面研磨

    極限の平面度を追求します!

    硬鋼材全般 など セラミックス:アルミナ、SiC、Si3N4、チタニア、イットリア、PZT、PMN-PT など 樹脂 :エンジニアリングプラスティックス全般、アクリル、ポリカ  など ガラス・結晶材料:石英、BK7、PYREX など 半導体材料:Si、SiC、GaN など 上記にない材質も実績多数ですのでご相談くださいませ。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ティ・ディ・シー

  • 日本エクシード株式会社 事業紹介 製品画像

    日本エクシード株式会社 事業紹介

    複合技術で未来を創造する日本エクシード株式会社

    材料、酸化物材料、化合物材料、 金属材料の精密研磨加工及び洗浄を行っている会社です。 超平坦化技術・超薄化技術・超無歪み化技術・超清浄化技術・超平滑化 技術の5超の研磨技術を有し、すべての結晶材料の研磨加工を可能として おります。 素材ごとに独自の加工技術を用いた比類ない精度と品質で、あらゆる素材 の研磨ニーズにお応えします。 【事業内容】 ■半導体材料、酸化物材料、化...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エクシード株式会社

  • GaNテンプレート(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド) 製品画像

    GaNテンプレート(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド)

    MoCVD法で製造したGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)をご…

    サイズ:Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み:3μm、4μm、指定可能 結晶構造:GaN膜・オン・サファイア基板 転位密度≦ 5x106/ cm2 XRD:(002)≦ 250arsec、(102)≦300arsec 導電タイプ:N-type、P-type、Semi...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社同人産業

  • RC-LED(Resonant Cavity LED) 製品画像

    RC-LED(Resonant Cavity LED)

    POF通信・機器内光配線用途・光学照準器用途などに最適

    ■韓国のOptowell社では、15年を超える光半導体技術研究の成果により高性能 VCSEL・RC-LED・Pin-PDデバイスを供給 ■結晶成長からパッケージングまで一貫して自社で行うため、高精度なプロセス制御が可能 ■ISO9001/14001も取得しており、信頼性の高い生産体制を誇る...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社オプトロンサイエンス

  • 【ウェファー・プロセス】インゴット精製 製品画像

    【ウェファー・プロセス】インゴット精製

    わずかな変化で機能に大きな影響!精度が重要視されるウェファー・プロセス

    半導体の製造は、1420℃に加熱された溶融シリコンのるつぼから 始まります。デュブリン回転ユニオンは、るつぼとは反対方向に 回転するプーラーロッドを冷却。 プーラーロッドの端についた種結晶が溶融物からゆっくりと持ち上がり、 時間の経過とともに直径300mm、長さ2メートルのインゴットになります。 【特長】 ■1420℃に加熱された溶融シリコンのるつぼで製造 ■るつぼとは反...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社

  • 単結晶シリコンウエハ 製品画像

    結晶シリコンウエハ

    主にCZ法とFZ法を採用し、単結晶シリコンの成長からスライス、エッチン…

    素材:単結晶シリコン(半導体用、ソーラー用) 製法:CZ、FZ サイズ:Φ2”、Φ2.5”、Φ3”、Φ4”、Φ5”、Φ6”、Φ8”、Φ12”、Φ16”、Φ18” ※ソーラー向け:□125x125mm、□1...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社同人産業

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