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6件 - メーカー・取り扱い企業
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PRLiF粒など、各種結晶粒(真空蒸着材)取り揃えております。KBrヘキカ…
当社は、光学結晶メーカーならではの豊富な品揃えとスピーディーな対応で、 多種・少量の研究・試作用製品から量産品まで、ご要望にお応えします。 真空蒸着材 単結晶粒のサイズは2-5mm。記載されたサイズ以外も対応可能です。 また「KBrヘキカイカット品」は、"KB4SQ-1"(4x4x1 mm)や"KB7SQ-1-2"(7x7x1-2 mm)を ラインアップしております。 【真空蒸着材 ラインア...
メーカー・取り扱い企業: ピアーオプティックス株式会社
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半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】
PRどんな複雑なサファイア加工依頼にも挑戦します。1個からでもお気軽にお問…
創業77年の老舗サファイア製造メーカーです。 サファイアの大型結晶を自社で育成しているため、1mm以下の微細な製品から 写真のような300mm程度の大型窓の製作も可能です。 設計段階からお客様のご要求に寄り添い、品質的/コスト的に最適なカスタム製品を共に作り上げていくことが得意です。 1個からのお問い合わせも歓迎しておりますので、ご遠慮なくお問い合わせください。 切断、研削、研磨といった基本的...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社信光社
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2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…
Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバ...
メーカー・取り扱い企業: モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
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【資料DL可/EBSD】EBSD を用いたアルミスパッタ膜の評価
電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選…
電子線後方散乱回折法EBSD(Electron Backscatter Diffraction Pattern)は走査電子顕微鏡SEMと組み合わせることで以下が可能です ●微小領域の結晶粒の形状および方位の測定 ●基準方位に対する結晶の配向の確認 ●結晶方位差の情報から材料内部の歪の測定 本事例では 「EBSD を用いたアルミスパッタ膜の 評価」を紹介しています ...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。
Si合金にSiCセラミックス粒子を含有させた複合材です。 結晶性Siよりも曲げ剛性が高く、使用途中の割れ、チッピング等の発生がなく最後まで安定した成膜が可能となります。 結晶性Siターゲットの1.3倍の成膜レート(成膜速度)により、効率的な成膜が可能です...
メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社
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手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…
生産に充分なプロセス性能を実現 ・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現 ■簡易ロードロックタイプ ・手動搬送機構を装備 ・クリーンで高い真空性能 ・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能 ・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能 ・紫外LED用AlNテンプレート作成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)
UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を…
UV-LEDの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのAlNテンプレートをスパッタで作成。100arc/sec以下のC軸配向性を持つAlN膜を低温(700℃以下)でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でUV-LEDの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。 ...標準型ロードロックタイプスパッタリング装置より成膜系...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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低温ALD装置とバレル機構の融合
【コーティング活用例】 磁性粉体(サマリウムコバルト系、鉄ネオジム系、フェライト等)への保護膜形成 ・保磁力、分散性の向上 ・参加劣化防止 ・帯電防止 全個体電池(結晶、ガラス、ガラスセラミックス) ・硫黄と水分の反応性での有毒ガス発生の課題解決 ・低いイオン伝導率の課題解決 固体酸化物型燃料電池(SOFC) ・高密度イオン伝導体の薄膜化 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリエイティブコーティングス
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