セイコーフューチャークリエーション株式会社 【資料DL可/EBSD】EBSD を用いたアルミスパッタ膜の評価
- 最終更新日：2023-10-12 08:02:34.0
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電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選定に役立ちます
電子線後方散乱回折法EBSD（Electron Backscatter Diffraction Pattern）は走査電子顕微鏡SEMと組み合わせることで以下が可能です
●微小領域の結晶粒の形状および方位の測定
●基準方位に対する結晶の配向の確認
●結晶方位差の情報から材料内部の歪の測定
本事例では
「EBSD を用いたアルミスパッタ膜の 評価」を紹介しています
この測定技術は、アルミスパッタ膜の性能評価、下地選択に役立ちます
磁石の方位評価や結晶性があればセラミック材料にも応用可能です
ぜひお試しください
なお、弊社ではEBSDとSEMに加え、TEMによる各種断面解析、XPSによる表面分析なども行っており多面的に解析分析を行えます
営業だけでなく技術者も直接対応しますので、お気軽にご相談いただければ幸いです
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基本情報【資料DL可/EBSD】EBSD を用いたアルミスパッタ膜の評価
解析の結果、下地材料の違いがアルミスパッタ膜の配向に強く影響していることが判明しています
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