• 理論計算でビッカース硬さを推算する方法/事例/ソフトウェア 製品画像

    理論計算でビッカース硬さを推算する方法/事例/ソフトウェア

    PR機械物性をシミュレーションするためのソフトウェア / 第一原理計算 M…

    【技術資料】 材料設計支援統合システム『MedeA』は、原子スケールのシミュレーション技術により機械物性を推算することができるソフトウェアです。当ソフトウェアで推算可能な物性にビッカース硬さが新たに加わりました。材料の組成(およびその結晶構造)の情報のみを元にしてビッカース硬さを精度良く推算することができます。 当資料では、第一原理計算によってビッカース硬さを推算する方法とその適用事例を紹...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • 単結晶粒(真空蒸着材/錠剤) 製品画像

    単結晶粒(真空蒸着材/錠剤)

    PRLiF粒など、各種結晶粒(真空蒸着材)取り揃えております。KBrヘキカ…

    当社は、光学結晶メーカーならではの豊富な品揃えとスピーディーな対応で、 多種・少量の研究・試作用製品から量産品まで、ご要望にお応えします。 真空蒸着材 単結晶粒のサイズは2-5mm。記載されたサイズ以外も対応可能です。 また「KBrヘキカイカット品」は、"KB4SQ-1"(4x4x1 mm)や"KB7SQ-1-2"(7x7x1-2 mm)を ラインアップしております。 【真空蒸着材 ラインア...

    メーカー・取り扱い企業: ピアーオプティックス株式会社

  • セントロサーム 超高温バルクアニール炉 製品画像

    セントロサーム 超高温バルクアニール炉

    超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…

    ワイドバンドギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • フラッシュランプアニーリング装置 FLA 製品画像

    フラッシュランプアニーリング装置 FLA

    半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

    S、CIGS等のソーラーセル(フレキシブル、ガラス基板等)の  ヘテロエピレーヤーの膜質向上   ○ITO等の透明導電性酸化膜の改質(フレキシブル、ガラス基板等) ○a-Si、Poly Siの結晶性の向上 ○インクジェットによる半導体材料、超薄金属膜、シリコンナノ粒子のアニーリング処理 ○Si、Ge、Sn等のナノクリスタルの形成 ○ローカルメルティング-再結晶化/FLASiC(SiC ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • 化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

    を揃えています。 真空及び不活性雰囲気中の処理を標準としており、オプションで還元雰囲気中での処理にも対応いたします。 高真空排気後の大気圧水素雰囲気処理により電極膜のアニールだけでなく半導体膜、結晶膜の高温還元熱処理も可能です。 基板に合わせて温度の均一性と基板のハンドリングを容易にするため温度均一板や専用治具など細やかな対応を行っています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

    化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のSiウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温(1000℃)均一加熱 ...横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム&大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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