【ご希望の形状に切断×溶接加工品にも対応】ヨシザワLAの鉛加工品

PR鉛加工でお悩みの方、X線装置メーカーの方必見！貴社に適した鉛加工品をご…

ヨシザワLAは、様々な形状の鉛加工品をご提供いたします。 鉛の板から製造している当社だから様々な製品の提供が可能です。 創業100年の実績と高い技術力をもって、ご希望の製品を提供いたします。 大型の鉛鋳込や放射線鉛遮蔽体の設計・製作、現地での 鉛ライニングなどにも対応。 医療関連、原子力関連からウエイト材まで承ります。 お気軽にご相談ください。 【特長】 ■ご希望の...

メーカー・取り扱い企業： ヨシザワＬＡ株式会社

ウルトラデフォームドワイヤー(モータ用コイルの占積率UPに！)

PRモータコイルの占積率UPに寄与する3D平角銅線です！

従来の集中巻きコイルに使用されるマグネットワイヤーは、丸の断面形状が主流です。 高占積率化を狙うため平角断面のワイヤーを使用する設計が分布巻きや集中巻きでも 取り入れられております。 当社の『ウルトラデフォームドワイヤー』は、独自の技術により、断面積は一定のまま 厚×幅のアスペクト比を変化させた平角線となります。そうする事で円周上に並んだ ステータコイルの隙間を埋める設計も可能となります。 必...

メーカー・取り扱い企業： ナミテイ株式会社

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

RIBER社（フランス）は、1964年に設立された分子線エピタキシャル成長装置（MBE装置）およびコンポーネント（MBEセル・蒸着源）を製造・販売する世界シェアNo.1のサプライヤーです。これまで主にGaAsやInP、GaN等の化合物半導体材料の成膜用途...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

分子線エピタキシー（MBE）装置

コンパクトなサイズ（１インチ〜２インチ）対応のMBE装置です。

●特徴 本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源（クヌーセン・セル）により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有機金属を使用するガスソースMBE装置などがございます。...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

RIBER　MBEセル（蒸着源）

MBEセル（蒸着源、分子線セル）はエピタキシャル膜の品質において重要で…

分子線を作り出すMBEセルは、エピタキシャル膜の品質（均一性・組成・純度・モフォロジーなど）を左右する最も重要なコンポーネントです。RIBER社では、材料特性や用途に合わせて豊富なラインナップを用意してい...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…

『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル