ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」

PRAEM（アニオン交換膜）式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…

【AEM式水電解水素製造装置　3つの特長】 １．高圧・高純度の水素を生成 　　99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ 　　水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ 　　ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運 　　転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 ２．貴金属不要で低コストを実現 　...

メーカー・取り扱い企業： 三國機械工業株式会社

自動膜厚測定装置 KV-300 / KF-10

500μm厚までの厚膜レジストやポリイミドを非接触で高精度測定。

自動レジスト膜厚測定装置 KV-300/KF-10は従来安定した膜厚測定が困難とされていた超厚膜レジストを非接触で高精度な測定ができます。標準搭載の自動マッピング機能は、高精度自動ステージにより基板の面内膜厚分布...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

R室内にベークプレートを配置し、加熱しながら官能基の変化を観察できます。 ○紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 ○レジスト膜厚75nmでの測定を可能。 ○EUVリソのような超薄膜レジストプロセスの解析に最適。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

レジスト現像アナライザ　RDA-Qz3

現像速度測定・評価装置。現像中のレジストの膨潤挙動も評価できます。

【主な特徴】 ○QCM法による現象速度測定評価 ○現像中のレジストの膨張挙動が評価可能 【その他の特徴】 ○現像速度の測定・解析 →Si基板、多層膜基板、Al基板、ARC上のレジストに対応 ○現像特性解析 →γ値、Eth、ディスクリミネーションカーブの測定、現像コントラスト（tanθ）の算出 ○正確なモデリングパラメータの決定 →現像パ...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社