• 実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』 製品画像

    実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD(原子層堆積)装置』

    PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

    ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • タップ | 高能率 | 貫通穴/止り穴 『PIONEX』 製品画像

    タップ | 高能率 | 貫通穴/止り穴 『PIONEX』

    創業120年超、ドイツからグローバルに展開するグーリングが開発した、高…

    した高能率かつ高速加工対応の次世代JIS規格タップ『PIONEX(パイオネックス)』 特殊処理による連続的でスムースな切刃を持ち、高速・高能率条件で加工が可能。 また加工時の衝撃からコーティングの剥離を防止。 被削材を選ばず幅広く適用可能。 切屑排出性を十分に考慮した溝形状と低摩擦コーティング採用により、優れた切屑排出性。 上記要素の複合効果により工具寿命の延長を図ることが出来ます。...

    メーカー・取り扱い企業: グーリングジャパン株式会社

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