ミニeビームエバポレーター

UHV環境下での極薄膜作製に最適。 英国オックスフォードアルライド…

高度な制御が可能で多くの材料に対して0.1～50Å/minの範囲でコントロールが可能。 ≪用途≫ 数nmの薄膜作製、半導体ドーピング ≪特長≫ ■冷却効率で今民ネーションフリーの設計 ■材料はロッドまたはルツボ充鎮の選択 ■標準搭載のフラックスモニタリングプレートにより精密な膜厚コントロール可能 ■1ポケットと4ポケットのタイプがあり、4ポケットは、それぞれ独立した制御が可...

メーカー・取り扱い企業： 三和真空株式会社

サドルフィールドファーストアトム（FAB）ビームソース

電荷を持たない中性ビームを生成。 英国オックスフォードアルライドリ…

ビームを中性化することで、これまで電荷粒子が問題になっていた誘電体や半導体への照射やエッチングプロセスにも最適です。 ≪用途≫ ■成膜前の基盤クリーニング ■常温接合前のサンプルクリーニング、表面の活性化 ■半導体基板等のエッチング ■微細加工 ■リアクティブアトムビームエッチング ≪特長≫ ■電荷を持ったイオンによる衝撃と異なり、絶縁物や半導体試料にもチャージダメー...

メーカー・取り扱い企業： 三和真空株式会社

ピエゾエレクトリックガスドーザー

ＵＨＶ環境下で極微量ガスの導入が可能。 英国オックスフォードアルライド…

ＵＨＶの装置に適合したオールメタルのリークバルブで、ピエゾ素子を用いて制御します。 ...このリークバルブは内蔵されたピエゾ素子に電圧を印加し、そのピエゾ素子の歪みを利用して流量をコントロールします。 ...

メーカー・取り扱い企業： 三和真空株式会社