BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置

用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置

日本電子株式会社 BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置は、研究開発や少量生産に適した蒸着装置です。 様々なオプション機器が搭載可能で、チャンバー形状やロードロック等、ご要望に合わせて制作します。 〇特長 ・蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボン...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応

日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。 従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことにより ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。 〇特長 ・ライナー大容量化。 ・ハイレート化 ・大型装置対応。 ・厚膜対応。赤外用途への対応も可能 ・レート安定化 ・低ダメージ・低欠陥...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社