高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

熱応答性・柔軟性に優れた薄型発熱体『シリコンラバーヒーター』

PR【1枚から製作可能】柔軟性があるので軽量化、小型化が実現！さまざまな形…

オーエムヒーターが取り扱う標準タイプの「シリコンラバーヒーター」を ご紹介します。 丸型、三角、台形、穴あきなど複雑な形状も、手ごろな価格で1枚から 製作でき短納期にも対応。 ヒーター厚はわずか1.5mmなので熱応答性に大変優れています。 今までの金属ヒーターに代わる柔軟性のある薄形の面状発熱体です。 【特長】 ■複雑な形状も、手ごろな価格で1枚から製作でき短納期にも対応...

メーカー・取り扱い企業： オーエムヒーター株式会社

真空蒸着【試作から量産まで】

真空蒸着によるフッ素の表面処理の受託加工を試作から量産までお受けいたし…

防汚性、離型性などの効果を付与させます。 効果確認用の小規模試作から実際の製品などで使用する為の量産までお受けすることが出来ます。 [特徴] ・処理する膜厚が10～20nmと非常に薄い膜となっており、金型などへ処理する場合に基材の寸法への影響を与えにくい ・深さ方向にはアスペクト比5まで対応(穴径1に対して深さ5) ・基材サイズ最大700mm□まで対応 ・無色透明の薄膜で光...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

撥水・耐指紋性・防汚対策に！光学部品向けフッ素コーティング加工

自社開発の薄膜表面処理技術！レンズ・カバーガラスなどの光学部品へ「撥水…

】 ■対象：光学部品（レンズ、カバーガラスなど） ■目的：撥水性付与、汚れ（耐指紋）付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

表面処理技術「金属・ガラス基材に機能膜を付与」

最薄５ナノメートルからコントロール可能な超薄膜処理技術！ガラス・金属等…

と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【NANOSの特長】 ◆優れた撥水性・撥油性 　・純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ◆薄い膜厚をコントロール可能 　・スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　・真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ◆光学特性への影響が少ない（無色・透明）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部