• 『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も 製品画像

    『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も

    PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに!初心者にもわかりやすく解…

    「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない(材料・条件による) ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...

    • リーフレット 洗浄と改質rev1.png

    メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社

  • サンプリングコンデンサー『PUSSCO-SAT』 製品画像

    サンプリングコンデンサー『PUSSCO-SAT』

    PRサンプリングポイントへの取り付けが容易!スペースを取らずに使用可能

    『PUSSCO-SAT』は、ピュアスチームのサンプリングを目的とした コンデンサーです。 当製品設置のため、サンプリングポイントにダイヤフラムバルブを取付、 PUSSCO-SATを縦向きになるようにスチーム入口と繋いで、 冷却水は向流になるよう下から上に流れるように接続しサンプリングを行います。 また、容易に取り付けることができ、スペースを取らずに 使用いただけます。 【特長】 ■ダブルチュ...

    メーカー・取り扱い企業: 日東機器ファインテック株式会社

  • 圧力解放 | KUB型ラプチャーディスク 製品画像

    圧力解放 | KUB型ラプチャーディスク

    再使用可能なラプチャーディスク。【INCHEM TOKYOに出展】

    を脆弱化して製造されるタイプのラプチャーディスクと異なり、 精確なフルボア開放のために座屈ピンを取り入れたREMBE独自の高技術による製品です。 また、ディスク素材に軟弱化した箇所がない平滑表面で、誤操作や誤取付や 落下(1m程度の高さからの落下)による破損恐れがなく、非常に堅牢です。 シールメンブレン層と破裂層の2層構造で、プロセス媒体に接触するシールメンブレン層の表面は 平滑...

    • 2656-1-kub_dn_200_8_ig_kub_studio_2015_032.jpg
    • KUB002.jpg
    • KUB003.JPG
    • KUB001.jpg

    メーカー・取り扱い企業: REMBE株式会社

  • 防爆 | フレームレス爆発放散口 Q-Ball E型 製品画像

    防爆 | フレームレス爆発放散口 Q-Ball E型

    エレベーターの爆発放散口 - 軽量で高い放散効率

    E型の取付呼び径は、エレベーターのような機械式コンベアの標準サイズにぴったり合う設計です。フランジを調整作業する必要はありません。Q-Ball E型は軽量のため、コンベアシャフト補強も不要です。全表面でのフレームレス爆発放散原理が新たに開発され、Q-Ball E型は最高の放散効率を保証します。その結果、必要な爆発放散空間を最小化することが可能です。...

    • Q-Ball1.JPG
    • Q-Ball2.jpg

    メーカー・取り扱い企業: REMBE株式会社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • IPROS12974597166697767058 (1).jpg
  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg

PR