Micro Point Pro（マイクロポイントプロ）株式会社

PRウェッジボンディングツールをはじめ、世界で9000台以上の実績を持つ卓…

Micro Point Pro（マイクロポイントプロ）株式会社は、設立から40年の経験と専門知識を保有し、 半導体およびマイクロ電子デバイスアセンブリ業界向けの商材を幅広く取り扱っています。 イスラエルに拠点を構え、150名の従業員とグループ企業600名の従業員がサポート。 MPPでは原材料から完成品まで全ての製造プロセスがあり、多くのグローバル企業との実績も多数ございます。 【取扱製品】 ■...

メーカー・取り扱い企業： Micro Point Pro ltd株式会社 本社

高精度かつ高強度！『メタルコアシリーズ』

PR高強度・耐食性に加え表面処理性に優れ、加熱処理も可能！

メタルコアは、カッター刃でキズも付かない等、 樹脂コアに優る耐久性によりリユースコア用途としてもその特性を発揮します。 メタルの管材は、元来巻き芯に求められる内外径・肉厚精度を満たすものが少ない中で、 当社のメタルコアは、高い真円度を実現しフィルムの巻シワの発生を抑えることが可能！ ■メタルコアシリーズ（アルミコア）のご紹介 特殊硬化処理を行う事により表面改質が可能！ 通常Hv...

メーカー・取り扱い企業： 三協紙業株式会社

フラッシュランプアニーリング装置　FLA

半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

フラッシュランプアニーリング装置　FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス（マイクロ/ミリ秒レベル）のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。 【特徴】 ○独立して稼動可能な処理室を2室有している ○生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

特許技術のラミナーフロー方式 　YES PBシリーズのチャンバーは上部にガス発生プレナム、下部の吸引プレナムがついており、 　加熱されたガス(通常N2)はウェハに対して平行に流れます。 　平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを 　除去するのに効果的です。 チャンバー内にパーティクル除去フィルタを搭載 　加熱されたプロセスガスは100um径...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由なパルスシーケンス形成 ■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能 ■独自...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

石英ガラス 高純度アニール炉

熱源はSiCヒーターを採用！高いクリーン性能を実現した高純度アニール炉

『石英ガラス 高純度アニール炉』は、アニール工程における 石英ガラス製品の表面汚染を大幅に減少させることが可能です。 ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。 処理製品の大口径化、長尺化に対応するべく炉体の大型化を進めており、 お客様のご要望に応じて専用設計いたします。 【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱源...

メーカー・取り扱い企業： アドバンエンジ株式会社

水素アニール装置（電子デバイス用、サンプルテスト対応中）

大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...６インチウェハ対応の石英管の横型...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【アルミ旋盤加工・アルミ精密切削】

旋盤加工／アルミ加工／精密部品加工

・レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タ...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

【切削加工・アルミ加工】

切削加工/金属加工

・レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タ...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社