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10件 - メーカー・取り扱い企業
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PR難めっき樹脂・難接着樹脂へ「非粗化による直接めっき」や「接着剤レス直接…
弊社改質技術では、基材表面へ官能基を強固に結合して付与することで、 一般的なプラズマ表面処理(有機物除去、一時的な親水性の向上など)ではできない表面改質処理を提供できます。 【特長】 ○低誘電材および難めっき材への非粗化直接めっき技術 フッ素樹脂、LCP、COP、ポリイミド樹脂などへ非粗化でシード層が介在しない直接銅めっきが可能 ○難接着材の非粗化接着剤レス・直接接着技術 各種フッ素樹脂、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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内面平滑、臭い移りのない食品専用ホースで品質向上!残液もゼロに。
PR特に風味が重要な調味料・乳製品・食用油・粉物・ビール等、製造時の品質を…
汎用ホースではなかなか改善しない食品製造プロセス特有の悩みを解決するのが【TH4シリーズ】です。 【TH4シリーズ】とは FDAなど世界規格を満たした白色ゴムを内面に使用した食品専用サニタリーホース。 【TH40 TH40C TH41】 迷ったらコレ!食品・飲料・調味料向けプロセスホース。内面平滑で臭い移りを極限まで抑えたEPDMゴムを内面に使用。世界的な飲料メーカーや食品調味料メ...
メーカー・取り扱い企業: 東葛テクノ株式会社
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半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…
フラッシュランプアニーリング装置 FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス(マイクロ/ミリ秒レベル)のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!
『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。
高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。 【特徴】 ○独立して稼動可能な処理室を2室有している ○生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れる...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…
特許技術のラミナーフロー方式 YES PBシリーズのチャンバーは上部にガス発生プレナム、下部の吸引プレナムがついており、 加熱されたガス(通常N2)はウェハに対して平行に流れます。 平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを 除去するのに効果的です。 チャンバー内にパーティクル除去フィルタを搭載 加熱されたプロセスガスは100um径...
メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社
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光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】
耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…
『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由なパルスシーケンス形成 ■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能 ■独自...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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熱源はSiCヒーターを採用!高いクリーン性能を実現した高純度アニール炉
『石英ガラス 高純度アニール炉』は、アニール工程における 石英ガラス製品の表面汚染を大幅に減少させることが可能です。 ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。 処理製品の大口径化、長尺化に対応するべく炉体の大型化を進めており、 お客様のご要望に応じて専用設計いたします。 【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱源...
メーカー・取り扱い企業: アドバンエンジ株式会社
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大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…
水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理(べーく・アニール)に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...6インチウェハ対応の石英管の横型...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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旋盤加工/アルミ加工/精密部品加工
・レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市 フィリール株式会社 本社 ベトナム(ホーチミン) フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■1個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タ...
メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社
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切削加工/金属加工
・レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市 フィリール株式会社 本社 ベトナム(ホーチミン) フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■1個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タ...
メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社
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トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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