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PR難めっき樹脂・難接着樹脂へ「非粗化による直接めっき」や「接着剤レス直接…
弊社改質技術では、基材表面へ官能基を強固に結合して付与することで、 一般的なプラズマ表面処理(有機物除去、一時的な親水性の向上など)ではできない表面改質処理を提供できます。 【特長】 ○低誘電材および難めっき材への非粗化直接めっき技術 フッ素樹脂、LCP、COP、ポリイミド樹脂などへ非粗化でシード層が介在しない直接銅めっきが可能 ○難接着材の非粗化接着剤レス・直接接着技術 各種フッ素樹脂、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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Ni+HCrの2層めっき等工業用硬質クロムめっき※資料7点進呈
PR耐摩耗性、耐熱性、耐食性の向上などに貢献、難材質への工業用硬質クロムめ…
当社は東日本最大級のめっき設備を保有しており、 金型、ロール、一般機械部品への工業用硬質クロムめっき加工を中心とした表面処理加工を行っております。 難材質への工業用硬質クロムめっきや、梨地処理と組み合わせた仕上げ、他にもアルマイト処理、2層めっき(Ni+HCr)など様々なニーズにも対応しております。 【当社の強み】 ■豊富な加工実績と高い技術力 ■細部までへのこだわり ■各種研磨や機械加工にも...
メーカー・取り扱い企業: 大森クローム工業株式会社
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BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃
学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
を発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
ソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途(プラズマアシスト蒸着)や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせくだ...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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