BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

を発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

ソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせくだ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社