三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト】シリーズ

PR研究開発から、小LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」…

　株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 小ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三明 本社／静岡市、支店／東京・沼津・中部・大阪、営業所／横浜・北関東・山形・名古屋・北陸・長野・八戸

中川化学装置株式会社　事業紹介

PR豊富な納入実績が証明する高水準の処理設備！水処理設備の開発からカスタマ…

中川化学装置株式会社は、各種産業廃液処理プラントの設計・施工などを 行っております。 燐亜鉛系、燐酸鉄系、フッ化物含有系に分類でき、その廃水に応じて無機 凝集剤を選定し適切な水処理を行う「塗装前処理排水処理装置」などを取り 扱っています。 廃水等の水処理装置全般、プラントの設計・施工のことなら当社にお任せ ください。 【事業内容】 ■各種産業廃液処理プラントの設計・施工...

メーカー・取り扱い企業： 中川化学装置株式会社 本社

パワー半導体・プリント基板向け洗浄剤／VIGON PE 194A

弱アルカリ性フラックス洗浄剤、リンス性に優れ泡立ちせず、スプレーや浸漬…

『VIGON PE 194A』は、スプレー・浸漬装置用に専用設計された 水系弱アルカリ性洗浄剤です。 感作性が高い金属、特にダイとの材料適合性に非常に優れており、 さらに短時間での銅の酸化膜除去が可能。 MPCテクノロジーを基にパワー...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体・プリント基板洗浄剤】VIGON PE 190A

引火点を持たないため防爆設備を必要としない！様々なタイプのスプレー装置…

『VIGON PE 190A』は、スプレー装置用に専用設計された水系アルカリ性洗浄剤です。 MPCテクノロジーを基にリードフレームやディスクリート部品、 パワーモジュール、パワーLED、プリント基板、特に低スタンド部品 下部からフラッ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

ゼストロンジャパン株式会社 製品カタログ

プリント基板のフラックス洗浄などに！多様な水系・溶剤系洗浄剤を取り揃え

【その他の掲載内容(一部)】 ■パレット、フラックス回収装置、治具等の洗浄 ■MPC TECHNOLOGY ■HYDRON TECHNOLOGY ■FAST TECHNOLOGY ■分析装置のご紹介 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【プリント基板向けフラックス洗浄剤】VIGON A 200

低スタンドオフ部品の洗浄にも好適！防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能

『VIGON A 200』は、インラインやバッチ装置のような、高圧・中圧スプレー 装置でご利用いただけるよう専用設計された水系洗浄剤です。 MPC テクノロジーを基に、様々なタイプのフラックス残渣を電子基板、 セラミック基板、パワーモジュー...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 210

VOC値が20％を大幅に下回る！引火点がないため防爆設備なしでご利用可…

ノズル)からも接着剤を取り除く ことができ、スプレー洗浄及び超音波洗浄用途に設計されております。 【特長】 ■18-40℃の温度域で安定し優れた洗浄性を発揮 ■界面活性剤を含まず、基板や装置内部に残渣を残さない ■材料適合性に優れる ■泡立ちなく、低臭気で、リンス工程における有機物の残渣がない ■治具やディスペンサーノズルから接着剤を取り除くのにも使用できる ※詳しくはPD...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】HYDRON SC 300

引火点を持たない水系洗浄剤のため、洗浄装置に防爆仕様が不要！

『HYDRON SC 300』は、メタルマスク洗浄用として開発された水系洗浄剤です。 クリーム半田やSMT ボンドを常温にて確実に除去し、 メタルマスク表面上に残渣を残しません。 また、洗浄およびリンス工程にて使用可能で、洗浄剤残渣なく乾燥し、 印刷機の裏拭きにも使用できます。 【特長】 ■クリーム半田や接着剤洗浄に優れた効果を発揮し、残渣を残さない ■洗浄およびリンス工...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON TC 150

導電性ペースト用水系洗浄剤、メタルマスクやスクリーン版からの銀シンター…

マスクやスクリーン版からの銀シンターペーストの除去も可能 ■従来の溶剤系洗浄剤の代替も可能な水系洗浄剤 ■水系のため作業者の健康面・安全面の改善が可能 ■引火点がないため、防爆仕様なくスプレー装置にてご使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N

効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ！活性化された銅基板を長期間…

『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後の...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 207

インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能！

『ATRON AC 207』は、FASTテクノロジーを基に特に低濃度で処理するため 開発された洗浄剤です。 一般的な界面活性剤系洗浄剤の洗浄性と液寿命を向上させ、 特に感作性が高い金属に対応できるよう開発されました。 マイルドな組成で低濃度仕様のため、当製品はアルミ、真鍮、ニッケル等 のような感作性が高い金属に対し優れた材料適合性を示します。 【特長】 ■低濃度・低温でも...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体・PCBフラックス洗浄剤】VIGON PE 180

パワーエレクトロニクス・プリント基板向け！銅表面の酸化膜除去にも優れま…

『VIGON PE 180』は、スプレー装置用にてパワーエレクトロニクスや プリント基板のフラックス除去用として開発された中性の水系洗浄剤です。 フラックスを確実に除去し、材料適合性に優れた製品。 リードフレーム、ディスクリート部品...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 205

粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに！画像解…

AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため 設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。 当製品はより短い処理時間かつ長寿命。 特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリップチップパッケージ、CMOS、 BGAにも効果を発揮します。 【特長】 ■先進の鉛フリー・共晶はんだフラックス残渣などをより素早く除去 ■マイル...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社